3 区管式炉是一种多功能加热设备，专为研究和工业应用中的精确热处理而设计。其分段式加热器设计允许对三个区域进行独立的温度控制，从而实现均匀加热、复杂的热梯度和灵活的编程。主要用途包括 1000°C 以下的退火和化学气相沉积 (CVD)，可输送气体和处理最大 60 毫米的样品。在空间温度变化至关重要的材料科学、半导体加工和先进制造领域，该设备可为客户量身定制热环境。
要点说明：
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多区温度控制
- 三区管式炉 3 区管式炉 沿长度方向设有三个独立控制的加热区
- 可创建精确的温度梯度（例如 50°C/cm），以实现特殊的热曲线
- 允许在一个连续过程中同时使用不同的温度（例如 800°C/600°C/400°C）。
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核心应用
- 退火 :金属、陶瓷和半导体的应力消除和微结构改性
- 化学气相沉积 :在可控气氛下使用气相前驱体生长薄膜
- 材料研究 :研究相变、烧结行为和热降解
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操作优势
- 可对直径小于 60 毫米的样品进行均匀加热
- 集成气体歧管支持惰性（N₂、Ar）或活性（H₂、O₂）气氛
- 数字控制器可在每个区段实现可编程的斜坡/浸泡循环
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技术规格
- 最高温度：通常为 1000-1200°C（因型号而异）
- 加热速度：可调，通常为 1-20°C / 分钟
- 温度均匀性：每个区内 ±1-5°C
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与其他窑炉的比较
- 与单区炉不同，允许空间热量变化
- 与 马弗炉 提供更好的气氛控制
- 在静态样品处理方面比旋转炉更灵活
您是否考虑过独立区域控制如何实现新颖的实验设计？这种功能使研究人员能够模拟工业热处理过程（如连续炉），同时保持实验室精度。创建受控温度梯度的能力使其在扩散研究、界面工程和梯度材料开发方面尤为重要。
汇总表：
| 功能 | 优点 |
|---|---|
| 多区温度控制 | 实现精确的热梯度和同时不同的温度 |
| 核心应用 | 退火、CVD、使用可控气氛的材料研究 |
| 运行优势 | 均匀加热、支持气体歧管、可编程循环 |
| 技术规格 | 温度高达 1200°C，加热速率可调，每个区的均匀性为 ±1-5°C |
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