CVD & PECVD Furnace
定制多功能 CVD 管式炉 化学气相沉积 CVD 设备机
货号 : KT-CTF16
价格根据 规格和定制情况变动
- 最高温度
- 1600℃
- 温度控制精确度
- ±1℃
- 真空压力（高真空选项）
- 6x10-5Pa
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KINTEK 先进的 CVD 管式炉：精确性、多功能性和定制化
凭借卓越的研发和内部制造能力，KINTEK 为各种实验室和工业客户提供先进的高温炉解决方案。我们丰富的产品线包括马弗炉、管式炉、旋转炉、真空炉和气氛炉，以及专业的 CVD/PECVD/MPCVD 系统，并以强大的深度定制能力为后盾。我们致力于精确满足您独特的实验和生产要求。
产品概述：高性能 CVD 管式炉
KINTEK 化学气相沉积 (CVD) 管式炉经过精心设计，适用于需要精确控制温度、气氛和气流的工艺。它是沉积各种材料（包括绝缘材料、金属材料和金属合金材料）的高质量薄膜的理想选择，对研究和工业应用至关重要。我们的 CVD 炉通常具有多个加热区，可实现出色的温度均匀性、坚固耐用的真空系统和先进的质量流量气体控制站，可实现精确的前驱体输送。根据配置的不同，这些系统的温度最高可达 1600°C（如我们的 KT-CTF16-60 型），真空度最低可达 6x10 -5 Pa 的真空度。
主要优势和特点
我们的 CVD 管式炉旨在为您的关键工艺提供卓越的性能和可靠性：
- 精确的温度控制和均匀性： 多区加热（例如 KT-CTF16-60 中的 3x300mm）和先进的 PID 控制器（精度为 ±1°C）可确保稳定、均匀的温度曲线，这对于实现一致的薄膜质量至关重要。
- 多功能高温运行： 能够达到高温（例如，KT-CTF16-60 型号的恒定工作温度可达 1550°C，最高 1600°C），适用于各种 CVD 工艺和材料合成。
- 先进的气体管理： 多通道质量流量控制器 (MFC) 系统可精确混合和输送反应气体，具有高线性度（±0.5% F.S.）和可重复性（±0.2% F.S.）。
- 灵活的真空和大气功能： 系统可配置为各种真空度，从标准旋片泵（如 10Pa）到高真空分子泵站（如 6x10 -5 Pa），或在受控惰性/反应气氛下运行。
- 耐用结构： 采用高纯度炉管（如 Al 2 O 3 ）和优质炉腔材料（如氧化铝多晶纤维），以确保使用寿命和过程完整性。
- 用户友好界面： 可选择数字 PID 控制器或触摸屏 PID 控制器，提供直观的操作、数据记录和简易设置。
- 可定制设计： 从管直径和加热区长度到气体通道和真空元件，均可根据您的具体需求量身定制。
- 紧凑高效： 设计节省空间，同时不影响性能，适用于各种实验室和工业环境。
技术规格（示例：KT-CTF16-60 型）
以下是 KT-CTF16-60 型号的技术规格。请注意，可根据您的要求定制规格。
| 炉型 | KT-CTF16-60 |
|---|---|
| 最高温度 | 1600℃ |
| 恒定工作温度 | 1550℃ |
| 炉管材料 | 高纯度 Al2O3 管 |
| 炉管直径 | 60 毫米 |
| 加热区 | 3x300mm |
| 炉膛材料 | 氧化铝多晶纤维 |
| 加热元件 | 碳化硅 |
| 加热速率 | 0-10℃/min |
| 热耦合 | S 型 |
| 温度控制器 | 数字 PID 控制器/触摸屏 PID 控制器 |
| 温度控制精确度 | ±1℃ |
| 气体精确控制装置 | |
| 流量计 | MFC 质量流量计 |
| 气体通道 | 3 个通道（可定制） |
| 流量（示例） |
mfc1: 0-5sccm o2
mfc2: 0-20sccm ch4 MFC3：0- 100SCCM H2 MFC4：0-500 SCCM N2（可定制） |
| 线性度 | ±0.5% F.S. |
| 重复性 | ±0.2% F.S. |
| 管线和阀门 | 不锈钢 |
| 最大工作压力 | 0.45 兆帕 |
| 流量计控制器 | 数字旋钮控制器/触摸屏控制器 |
| 标准真空装置（可选） | |
| 真空泵 | 旋片式真空泵 |
| 泵流量 | 4 升/秒 |
| 真空吸入口 | KF25 |
| 真空规 | 皮拉尼/电阻硅真空计 |
| 额定真空压力 | 10Pa |
| 高真空单元（可选） | |
| 真空泵 | 旋片泵+分子泵 |
| 泵流量 | 4L/S+110L/S |
| 真空吸入口 | KF25 |
| 真空规 | 复合真空计 |
| 额定真空压力 | 6x10-5Pa |
| 以上规格和设置均可定制 | |
可定制的 CVD 系统配置
在 KINTEK，我们擅长根据您的精确研究或生产需求量身定制 CVD 炉系统。请浏览我们的一些多功能可定制设置示例：
运行原理
化学气相沉积（CVD）是一种多功能薄膜沉积技术，通过气态反应物在加热基底上形成固体材料。在 KINTEK CVD 管式炉中，基底被置于高纯度管（通常为石英或氧化铝）中，并加热至精确控制的温度。经过仔细计量的前驱气体混合物通过质量流量控制系统进入管内。这些气体在热基底表面或其附近发生反应或分解，从而沉积出所需的薄膜。主要操作方面包括
- 高温环境： 熔炉可形成化学反应所需的稳定高温区。
- 可控气体流量： 质量流量控制器 (MFC) 可确保准确、可重复地输送前驱体和载气。
- 真空或可控气氛： 真空系统可去除不需要的污染物和副产品，或保持受控气氛（惰性或反应性）以影响沉积化学反应。有些系统可采用射频（RF）辉光放电或其他等离子体增强技术来降低沉积温度或提高沉积速率。
- 均匀的薄膜生长： 对加热区和气流动力学的精心设计可促进基底上薄膜厚度和成分的均匀性。
该工艺广泛应用于半导体、太阳能电池、保护涂层、纳米材料以及其他先进电子和光学设备的制造。
应用范围广泛
KINTEK 多区 CVD 管式炉是各种研究和工业领域不可或缺的工具：
- 纳米材料合成： 是生长纳米线、纳米管（如碳纳米管）和制备用于先进材料开发的纳米薄膜的理想选择。
- 先进涂层技术： 广泛用于沉积金属膜、陶瓷膜（氧化物、氮化物、碳化物）和复合膜，以增强硬度、耐腐蚀性或导电性等表面特性。
- 半导体与电子： 在制造集成电路、传感器和其他电子元件时，沉积绝缘层、半导体层和导电层必不可少。
- 电池材料加工： 适用于高性能储能设备电池材料的干燥、烧结和表面改性。
- 高温烧结和退火： 适用于高温气氛烧结、气氛还原和退火工艺，以实现材料致密化和性能细化。
- 真空和气氛涂层： 高真空能力使其成为涂层纯度和质量至关重要的应用的完美选择。
- 研发： 广泛应用于大学和科研机构的基础材料科学研究，包括 CVD/CVI（化学气相渗透）实验。
- 等离子体增强工艺： 可用于等离子体增强 CVD (PECVD)、等离子体清洗和蚀刻，扩大了其功能的多样性。
标准封装（KT-CTF16-60 示例）
| 编号 | 说明 | 数量 |
|---|---|---|
| 1 | 带温度控制器的炉体 | 1 |
| 2 | 高纯度氧化铝或石英管（根据订单而定） | 1 |
| 3 | 带端口的真空密封法兰 | 2 套 |
| 4 | 管式隔热块/堵头 | 2 |
| 5 | 管式隔热块钩 | 1 |
| 6 | 耐热手套 | 1 双 |
| 7 | 精确气体控制装置（按订单提供 MFC） | 1 套 |
| 8 | 真空装置（泵和真空计按订单提供） | 1 套 |
| 9 | 操作手册 | 1 |
可选设置和定制
利用一系列可选功能增强您的 CVD 系统，以满足特定的实验需求：
- 管内气体检测和监控系统（如 H2、O2 等）。
- 独立的炉温监控和数据记录模块。
- 用于 PC 远程控制和数据输出的 RS 485 通信端口。
- 各种气体进料流量控制选项，包括不同量程的质量流量计和浮子流量计。
- 先进的触摸屏温度控制器，功能多样，操作简便（如可编程斜坡、数据记录）。
- 升级版高真空泵站设置，包括叶片真空泵、分子泵或扩散泵等选项。
- 液体/固体前驱体输送系统（如气泡器、蒸发器）。
- 废气净化系统。
与 KINTEK 合作，为您提供 CVD 解决方案
准备好利用最先进的 CVD 管式炉提升您的研究或工业流程的水平了吗？KINTEK 团队以我们在高温技术和定制方面的专业知识为后盾，致力于为您提供完全符合您的应用要求的系统。
今天就联系我们 讨论您的具体需求，探索定制选项，或索取详细报价。让我们帮助您在材料沉积方面取得无与伦比的成果。
FAQ
什么是管式炉及其工作原理？
多区管式炉的主要应用有哪些？
CVD 设备的原理是什么？
什么是立式管式炉？
什么是真空感应炉？
真空炉的主要应用有哪些？
PECVD 设备有哪些用途？
气氛炉有哪些用途？
管式炉的主要应用有哪些？
多区管式炉有哪些主要特点？
使用 CVD 机器有哪些优势？
立式管式炉有哪些应用？
真空感应炉的主要应用有哪些？
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多区管式炉如何工作？
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使用真空感应炉有哪些优势？
使用真空炉有哪些优势？
PECVD 设备有哪些主要特点？
使用气氛炉有哪些优势？
管式炉可以达到哪些温度范围？
有哪些类型的多区管式炉？
有哪些类型的 CVD 设备？
有哪些类型的立式管式炉？
真空感应炉有哪些类型？
真空炉可处理哪些类型的材料？
使用 PECVD 设备有哪些优势？
气氛炉可使用哪些类型的气体？
管式炉能否在不同气氛下运行？
为什么选择立式管式炉而不是卧式管式炉？
为什么温度控制对真空感应炉非常重要？
热壁真空炉和冷壁真空炉有什么区别？
使用 PECVD 设备可以沉积哪些材料？
先进的气氛炉有哪些安全功能？
是什么让 KINTEK 管式炉与众不同？
立式管式炉可以达到哪些温度范围？
真空感应炉可以处理哪些材料？
真空炉能否针对特定应用进行定制？
为什么 PECVD 比其他沉积方法更受青睐？
垂直管式炉是否可以定制？
真空环境如何有利于材料加工？
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