CVD & PECVD Furnace
带液体气化器的滑动式 PECVD 管式炉 PECVD 设备
货号 : KT-PE12
价格根据 规格和定制情况变动
- 最高温度
- 1200℃
- 射频等离子输出功率
- 5-500W
- 额定真空压力
- 10Pa~6x10-4Pa
运输:
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开启精密薄膜沉积
带液体气化器的 KINTEK 滑动式 PECVD 管式炉是专为多功能、高性能薄膜沉积而设计的先进系统。它专为满足现代研究和生产的严格要求而设计，将 500W 射频等离子源、用于快速热循环的创新型滑出式管式炉、精确的气流控制和坚固的真空站结合在一起。无论是电子、半导体、光学还是先进材料科学，该系统都能提供卓越的结果和可靠性。在 KINTEK，我们利用卓越的研发专长和内部制造能力提供类似的先进炉子解决方案，并提供强大的深度定制服务，以精确满足您独特的实验要求。
主要特点和优势
带液体气化器的滑动式 PECVD 管式炉 PECVD 设备具有众多优势，可提高您的研究和生产水平：
- 提高发电量： 创新的石墨舟结构可显著提高太阳能电池晶片的功率输出。
- 均匀的电池质量： 有效消除管状 PECVD 电池的色差，确保结果一致。
- 多功能射频等离子源： 自动匹配射频等离子源，输出功率范围宽（5-500W），性能稳定，适用于各种应用。
- 快速热循环： 炉腔滑动系统实现了高速加热和冷却，大大缩短了处理时间。辅助强制空气循环进一步加快了冷却速度。
- 自动化操作： 可选的自动滑动运动提高了效率，减少了人工干预，从而简化了工作流程。
- 精确的温度管理： PID 可编程温度控制可确保精确的温度调节。支持远程和集中控制，增加了便利性和操作灵活性。
- 精确的气体控制： 高精度 MFC 质量流量计可精确控制源气体，确保稳定、一致的预混合气体供应。
- 高性能真空系统： 带有多个适配端口的不锈钢真空法兰可适应各种真空泵站配置，确保高真空度和可靠的密封。
- 用户友好界面： 配备 CTF Pro 7 英寸 TFT 触摸屏控制器，简化了程序设置和操作，便于分析历史数据。
应用广泛
带液体气化器的滑动式 PECVD 管式炉 PECVD 设备适用于多种应用，包括
- 化学气相沉积 (CVD)
- 等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)
- 各种材料的薄膜沉积
- 太阳能电池制造和研究
- 半导体加工
- 纳米技术研发
- 先进材料科学研究
- 可控气氛中的一般研发
探索我们的系统配置
KINTEK 提供各种 CVD 系统设置，以满足不同的实验需求。以下是可用配置的示例：
工作原理
带液体气化器的滑动 PECVD 管式炉 PECVD 设备利用低温等离子体在工艺室的阴极（样品盘）中产生辉光放电。辉光放电（或其他热源）将样品的温度提高到预定水平。然后，引入受控量的工艺气体，发生化学和等离子反应，在样品表面形成一层固体薄膜。
内置安全优势
- 过流和过温保护： 窑炉配备过流保护和过温报警功能，一旦超过限值就会自动切断电源。
- 热电偶故障检测： 内置热电偶检测功能可在检测到热电偶断裂或失效时停止加热并触发警报，防止加热失控。
- 断电重启功能： PE Pro 控制器支持断电重启功能，一旦停电后恢复供电，炉子就能自动恢复加热程序。
技术规格
| 炉子型号 | KT-PE12-60 |
| 最高温度 | 1200℃ |
| 恒定工作温度 | 1100℃ |
| 炉管材料 | 高纯度石英 |
| 炉管直径 | 60 毫米 |
| 加热区长度 | 1x450 毫米 |
| 炉腔材料 | 日本氧化铝纤维 |
| 加热元件 | Cr2Al2Mo2 金属丝线圈 |
| 加热速率 | 0-20℃/min |
| 热电偶 | 内置 K 型 |
| 温度控制器 | 数字 PID 控制器/触摸屏 PID 控制器 |
| 温度控制精确度 | ±1℃ |
| 滑动距离 | 600 毫米 |
| 射频等离子装置 | |
| 输出功率 | 5 -500W 可调，稳定性为 ± 1% |
| 射频频率 | 13.56 MHz ±0.005% 稳定度 |
| 反射功率 | 最大 350W |
| 匹配 | 自动 |
| 噪音 | |
| 冷却 | 风冷 |
| 气体精确控制装置 | |
| 流量计 | MFC 质量流量计 |
| 气体通道 | 4 个通道 |
| 流量 |
MFC1: 0-5SCCM O2
mfc2: 0-20scmch4 mfc3: 0- 100sccm h2 mfc4: 0-500 sccm n2 |
| 线性度 | ±0.5% F.S. |
| 重复性 | ±0.2% F.S. |
| 管路和阀门 | 不锈钢 |
| 最大工作压力 | 0.45 兆帕 |
| 流量计控制器 | 数字旋钮控制器/触摸屏控制器 |
| 标准真空装置（可选） | |
| 真空泵 | 旋片式真空泵 |
| 泵流量 | 4 升/秒 |
| 真空吸入口 | KF25 |
| 真空规 | 皮拉尼/电阻硅真空计 |
| 额定真空压力 | 10Pa |
| 高真空单元（可选） | |
| 真空泵 | 旋片泵+分子泵 |
| 泵流量 | 4L/S+110L/S |
| 真空吸入口 | KF25 |
| 真空规 | 复合真空计 |
| 额定真空压力 | 6x10-4Pa |
| 以上规格和设置可定制 | |
标准包装内容
| 编号 | 说明 | 数量 |
| 1 | 火炉 | 1 |
| 2 | 石英管 | 1 |
| 3 | 真空法兰 | 2 |
| 4 | 导管隔热块 | 2 |
| 5 | 导管隔热块挂钩 | 1 |
| 6 | 耐热手套 | 1 |
| 7 | 射频等离子源 | 1 |
| 8 | 精确气体控制 | 1 |
| 9 | 真空装置 | 1 |
| 10 | 操作手册 | 1 |
定制和可选设置
KINTEK 以其强大的深度定制能力而自豪。我们可以量身定制滑动式 PECVD 管式炉，以精确满足您独特的实验要求。可选设置包括
- 管内气体检测和监控（如 H2、O2）
- 独立的炉温监控和记录系统
- 用于 PC 远程控制和数据输出的 RS 485 通信端口
- 定制的气体进料流速控制（质量流量计或浮子流量计）
- 先进的触摸屏温度控制器，功能多样，操作简便
- 各种高真空泵站设置（如叶片真空泵、分子泵、扩散泵）
与 KINTEK 合作满足您的高级炉需求
KINTEK 的滑动 PECVD 管式炉专为适应性和高性能而设计。我们了解您的研究是独一无二的。利用我们强大的深度定制能力，可根据您的具体规格定制该系统。无论您需要不同的温度范围、特定的气体配置、先进的控制功能还是独特的真空设置，我们的专家团队都能随时为您提供帮助。
准备好提升您的研究或生产水平了吗？请与我们的专家讨论您的要求并获得个性化报价。 请 填写我们的联系表 我们的专家将很快与您联系，帮助您配置完美的 PECVD 解决方案！
FAQ
什么是管式炉及其工作原理？
多区管式炉的主要应用有哪些？
CVD 设备的原理是什么？
分管炉的常见应用有哪些？
什么是立式管式炉？
管式炉的主要应用有哪些？
多区管式炉有哪些主要特点？
使用 CVD 机器有哪些优势？
分管炉有哪些主要特点？
立式管式炉有哪些应用？
使用管式炉有哪些优势？
多区管式炉如何工作？
CVD 机器有哪些应用？
分管炉如何工作？
立式管式炉有哪些优势？
管式炉有哪些类型？
使用多区管式炉有哪些优势？
CVD 设备有哪些主要特点？
使用分体式管式炉有哪些优势？
立式管式炉如何工作？
管式炉可以达到哪些温度范围？
有哪些类型的多区管式炉？
有哪些类型的 CVD 设备？
分管炉可以达到什么温度？
有哪些类型的立式管式炉？
管式炉能否在不同气氛下运行？
为什么分体式设计有利于管式炉？
为什么选择立式管式炉而不是卧式管式炉？
是什么让 KINTEK 管式炉与众不同？
立式管式炉可以达到哪些温度范围？
垂直管式炉是否可以定制？
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