产品 高温炉 微波等离子体化学气相沉积 915MHz MPCVD 金刚石机 微波等离子体化学气相沉积系统反应器
915MHz MPCVD 金刚石机 微波等离子体化学气相沉积系统反应器

微波等离子体化学气相沉积

915MHz MPCVD 金刚石机 微波等离子体化学气相沉积系统反应器

货号 : MP-CVD-101

价格根据 规格和定制情况变动


输出功率
3-75 千瓦连续可调
样品台直径
≥200 毫米
工作频率
915±15MHz
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KINTEK MPCVD 金刚石设备:革命性的金刚石合成技术

KINTEK MPCVD 金刚石机利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术,以前所未有的速度和精度合成高品质金刚石。与传统方法相比,这项先进技术可加快晶体生长速度、提高生产能力和钻石质量。

视觉概览和关键组件

MPCVD 详细信息

MPCVD 详细信息

利用 KINTEK 实现卓越的金刚石生产

我们的 MPCVD 金刚石设备可为您的金刚石合成需求提供显著优势:

  • 加速晶体生长: 晶体生长速度比传统方法快 10-100 倍,大大提高了生产效率。
  • 提高生产能力: 一次性合成更大批量的金刚石,最大限度地提高产量。
  • 卓越的钻石质量: 生产出硬度和韧性高于天然钻石的钻石,确保卓越的耐用性和性能。
  • 多种颜色选择: 生产各种颜色的钻石,包括白色、黄色、粉色和蓝色,以满足不同的市场需求和审美偏好。
  • 无与伦比的纯度: 达到比天然 II 类钻石更高的纯度水平,从而具有卓越的光学特性,适合高级应用。
  • 根据您的需求量身定制: 受益于多种风格的定制。我们可以调整设计,以满足特定的市场要求和独特的实验设置。

闪耀背后的科学:先进的 MPCVD 技术

微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)是一种复杂的工艺,由连续微波源产生并维持高活性等离子体。该等离子体由反应化学品(通常是甲烷和氢)和重要催化剂组成,然后用于在金刚石种子基底上培养新的金刚石层。

KINTEK MPCVD 金刚石设备可以精确控制微波功率和反应温度,有效消除了其他 CVD 方法面临的常见问题。通过优化反应室设计和工艺参数,它可以实现稳定的等离子体放电,这是持续生产高质量、大尺寸单晶金刚石的关键因素。

跨行业的广泛应用

我们的 MPCVD 设备所生产的金刚石具有独特的性能,包括超高的硬度、刚度、高导热性、低热膨胀性、抗辐射性和化学惰性,因此在各行各业都具有重要价值:

  • 宝石行业: 培育高质量、大尺寸钻石宝石的主要设备。
  • 先进材料与半导体: 生产各种用途的金刚石薄膜,包括用于半导体工业的大尺寸金刚石基板和高性能金刚石切割或钻孔工具。
  • 工业工具: 为切削工具、钻头和其他对硬度和耐用性要求极高的工业应用开发金刚石涂层。
  • 生物医学领域: 为医疗植入物(如人工关节和牙科植入物)制造生物相容性和耐久性金刚石涂层。
  • 光电子学: 为高功率激光器、探测器和其他光电设备制造金刚石窗口和基板,这些设备对高导热性和低热膨胀性要求极高。

技术规格

微波系统(根据可选电源)

  • 工作频率:915±15MHz
  • 输出功率:3-75kW 连续可调
  • 冷却水流量:120/分钟
  • 系统驻波系数:驻波比≤1.5
  • 微波泄漏

真空系统和反应腔

  • 泄漏率
  • 极限压力小于 0.7Pa(本机自带进口皮拉尼真空计)
  • 保压 12 小时后腔内压力上升不超过 50Pa。
  • 反应腔工作模式:TM021 或 TM023 模式
  • 腔体类型:冷却圆柱腔体,功率可达 75KW,高纯度,石环密封。
  • 进气方式顶部喷淋头入口。
  • 观察测温窗口:8 个观察孔,水平均匀分布。
  • 取样口:底部升降取样口

样品支架系统

  • 样品台直径≥200mm,单晶有效使用面积≥130mm,多晶有效使用面积≥200mm。基片平台水冷夹层结构,垂直直上直下。

气体系统

  • 全金属焊接气板 5-7 根气管
  • 设备内部气路全部采用焊接或 VCR 接头。

系统冷却

  • 3 路水冷却,实时监控温度和流量。
  • 系统冷却水流量 120L/min,冷却水压力

温度测量方法

  • 外置红外测温仪,测温范围 3001400 M

SL901A 设备关键部件列表

序列号 模块名称 备注
1 微波电源 国产标准磁控管:英杰电气 / 区别电源 国产固态源:进口磁控管:MKS/ Pastoral (+100, 000)
2 波导、三针、模式转换器、上谐振器 自制
3 真空反应室(上室、下室、连接器) 自制
4 红外测温仪、光位移元件、支架 红外测温仪、光位移元件、Fuji Gold Siemens + Schneider 支架
5 水冷却工作台运动部件(气缸、工件等)
6 陶瓷薄膜真空计、皮拉尼真空计 Inficon
7 真空阀组件(超高真空闸阀、精密气动阀*2、电磁真空充气差动阀) 富士金 + 中科 + 希迈特
8 真空泵和连接管件、三通、KF25 波纹管*2、适配器 泵:Flyover 16L
9 金属微波密封环*2;金属真空密封环*1;石英板 石英:上海飞利华半导体级高纯石英
10 循环水部件(接头、分流块、流量检测器) 日本 SMC/CKD
11 气动部件(CKD 过滤器、airtac 多路电磁阀、管件和适配器)
12 燃气接头、EP 燃气管、VCR 接头、0.0023μm*1 过滤器、10μm*2 过滤器 富士金属
13 机器外壳、不锈钢工作台、万向轮、脚垫、支架紧固螺钉等 定制加工
14 气体流量计*6 (包括一个压力控制器) 标准七星,可选 Fuji Gold ( +34,000 ) / Alicat (42,000)
15 气板加工(五通气体、过滤器*5、气动阀*5、手动阀*6、管道焊接) 富士金牌
16 PLC 自动控制 西门子 + 施耐德
17 钼工作台

与 KINTEK 合作满足您的先进材料需求

凭借卓越的研发和内部制造能力,KINTEK 专注于先进的高温炉解决方案,如 MPCVD 金刚石设备。我们引以为豪的是强大的深度定制能力,可确保我们的系统(包括这种先进的金刚石合成设备)精确满足您独特的实验和生产要求。

准备好提升您的金刚石合成水平了吗? KINTEK 的 MPCVD 金刚石设备可提供无与伦比的精度和效率。现在就联系我们,讨论您的具体要求,了解我们的技术如何提升您的运营水平。填写下表或 点击这里开始申请报价或咨询!

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FAQ

MPCVD 设备的原理是什么?

微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)设备通过使用微波发生器电离混合气体来产生等离子体。该等离子体被置于低压下的反应室中,基底由基底支架固定。主要组件包括微波发生器、等离子体室、气体输送系统、基底支架和真空系统。

使用 MPCVD 设备有哪些优势?

MPCVD 设备具有以下几个优点:消除了热丝(非极性放电)的污染,允许使用多种气体,提供稳定的反应温度控制,实现大面积稳定放电等离子体,并提供对薄膜厚度、纯度和晶体质量的精确控制。此外,它们还能生产大面积金刚石薄膜,确保条件稳定,保持样品质量一致,而且成本效益高。

MPCVD 设备有哪些主要应用?

MPCVD 设备主要用于实验室生长的高纯度金刚石合成,包括金刚石薄膜和其他先进材料。由于其能够精确控制生产高质量、均匀的薄膜,其应用领域扩展到半导体研究、光学和微机电系统(MEMS)。

MPCVD 设备有哪些主要组件?

MPCVD 设备的主要组件包括微波发生器(用于产生等离子体)、反应室(用于在低压下容纳基底和混合气体)、基底支架(用于在沉积过程中固定基底)、气体输送系统(用于引入和控制混合气体)和真空系统(用于维持必要的低压环境)。

MPCVD 设备如何提高能效?

MPCVD 设备采用无电极工艺,可减少污染和能量损失,从而提高能源效率。微波等离子体生成效率高,系统的模块化和可扩展设计可优化各种工业应用中的能源使用。

为什么 MPCVD 是金刚石生长的首选?

MPCVD 是金刚石生长的首选方法,因为它能提供高密度的带电粒子和活性物质,能在较低的压力下沉积大面积的金刚石薄膜,并能确保所生长的薄膜具有更好的均匀性。这些特点可生产出高纯度、高质量的金刚石,并能精确控制其特性。
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产品资料

915MHz MPCVD 金刚石机 微波等离子体化学气相沉积系统反应器

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微波等离子体化学气相沉积


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