Name: 倾斜旋转式等离子体增强化学沉积 PECVD 管式炉设备
Brand: Kintek Furnace
SKU: KT-PED
Rating: 4.81 (11 reviews)

等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 镀膜机

等离子增强蒸发沉积 PECVD 涂层设备

KINTEK 先进的 PECVD 系统：精密镀膜，满足您的需求

凭借卓越的研发和内部制造能力，KINTEK 为各种实验室和工业应用提供最先进的等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 系统。PECVD 是一种复杂的真空薄膜沉积技术，利用等离子体激活前驱气体。与传统的化学气相沉积 (CVD) 相比，PECVD 能够在更低的温度下生成高质量、均匀的涂层，从而扩大了热敏基材（如塑料）和各种涂层材料（包括电介质、半导体和绝缘体）的应用范围。

我们的 PECVD 设备是 KINTEK 先进高温炉解决方案综合套件中的重要产品，该解决方案还包括马弗炉、管式炉、旋转炉、真空炉和气氛炉以及其他 CVD/MPCVD 系统。我们引以为豪的是强大的深度定制能力，可确保您的 PECVD 系统经过精确设计，满足您独特的实验和生产要求。

主要特点

KINTEK 的等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 镀膜机具有一系列专为卓越性能和多功能性而设计的功能：

低温沉积： 可在易碎或低熔点基材上形成高质量薄膜，而不会产生热损伤，极大地拓宽了材料兼容性。
高沉积速率： 实现快速成膜，最大限度地提高产量，缩短加工时间，提高整体生产率。
均匀且抗裂的薄膜： 在整个基底上形成厚度和性能极其一致的涂层，最大限度地减少开裂等缺陷，从而获得可靠耐用的效果。
出色的基底附着力： 确保沉积薄膜与基底材料之间的牢固粘合，从而实现持久的性能并防止分层。
多功能涂层能力： 支持多种材料的沉积，如 SiO2、SiNx、SiOxNy 等，满足不同的应用需求。
复杂几何形状上的共形涂层： 能够对形状和形貌复杂的基底进行均匀镀膜，确保全面覆盖和最佳性能。
用户友好型设计： 维护要求低，安装简单，可最大限度地减少停机时间，简化与工作流程的整合。

技术规格

样品支架	尺寸	1-6 英寸
	旋转速度	0-20rpm 可调
	加热温度	≤800℃
	控制精度	±0.5℃ 岛电 PID 控制器
气体吹扫	流量计	质量流量计控制器 (MFC)
	通道数	4 个通道
	冷却方式	循环水冷却
真空室	真空室尺寸	Φ500mm X 550mm
	观察孔	带挡板的全视角观察孔
	腔体材料	316 不锈钢
	门类型	前开式门
	盖子材料	304 不锈钢
	真空泵接口	CF200 法兰
	气体入口	φ6 VCR 连接器
等离子电源	电源	直流电源或射频电源
	耦合模式	电感耦合或板电容
	输出功率	500W-1000W
	偏置功率	500v
真空泵	前级泵	15L/S 片式真空泵
	涡轮泵端口	cf150/cf200 620升/秒-1600升/秒
	溢流口	KF25
	泵速	叶片泵：15升/秒，涡轮泵：1200升/秒或1600升/秒
	真空度	≤5×10-5Pa
	真空传感器	电离/电阻真空计/薄膜真空计
系统	电源	交流 220V /380 50Hz
	额定功率	5kW
	外形尺寸	900 毫米 X 820 毫米 X 870 毫米
	重量	200 千克

应用领域

KINTEK 的等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 镀膜机为众多行业和尖端应用提供了多功能解决方案：

LED 照明： 沉积对高效耐用的发光二极管 (LED) 至关重要的高质量电介质和半导体薄膜。
功率半导体： 形成功率半导体器件中的绝缘层、栅极氧化物和其他关键薄膜元件。
MEMS（微机电系统）： 制造用于传感器、致动器和其他微型设备的精密薄膜。
光学镀膜： 沉积抗反射涂层、光学过滤器、保护层和其他功能性光学元件。
薄膜太阳能电池： 生产用于光伏设备的非晶硅和微晶硅薄膜以及其他半导体材料。
表面改性： 增强材料表面性能，包括提高耐腐蚀性、耐磨性、硬度和生物相容性。
纳米技术： 合成先进的纳米材料，如纳米颗粒、纳米线和超薄薄膜，用于新型应用。

为什么要与 KINTEK 合作开发 PECVD 技术？

选择 KINTEK 满足您的 PECVD 需求意味着投资于质量、可靠性和量身定制的解决方案：

深度定制： 我们擅长根据您的具体规格配置 PECVD 系统，确保为您的独特应用和研究目标提供最佳性能。
先进的研发和制造： 我们的内部专业技术推动创新，使我们能够提供最先进的 PECVD 技术。
高品质结构： 我们的系统采用不锈钢等优质材料，设计坚固，具有稳定性、耐用性和更长的工作寿命。
性能可靠： 我们的 PECVD 设备专为实现稳定的结果而设计，可生产出高质量、均匀且附着力极佳的薄膜。
全面支持： 从安装简单到维护要求低，我们确保我们的系统方便用户使用，并提供及时的客户服务。
多功能性： 我们的设备可沉积多种材料，适用于各种研究和工业流程。

工作原理

等离子体增强化学气相沉积（PECVD）是一种在薄膜沉积过程中利用等离子体（一种电离气体）刺激和增强化学反应的工艺。传统的化学气相沉积仅仅依靠高温来驱动反应，而 PECVD 则不同，它采用了高能等离子体。这种等离子体为前驱气体提供能量，从而在基底温度明显较低的情况下形成活性物质。然后，这些活性物质吸附在基底表面并发生化学反应，形成固体薄膜。这种方法可以沉积出各种高质量的薄膜，如 SiO2、SiNx 和 SiOxNy，尤其适用于制造太阳能电池中使用的非晶硅或微晶硅薄膜。较低的加工温度可最大限度地减少基底上的热应力、减少针孔并防止开裂，从而使 PECVD 成为更广泛材料和应用的理想选择。

利用 KINTEK 定制您的 PECVD 解决方案

准备好提升您的薄膜沉积能力了吗？KINTEK 的专家随时准备与您讨论具体的项目需求和挑战。我们可以帮助您配置完全符合您的实验或生产要求的等离子体增强化学气相沉积系统。从我们深厚的定制专业知识和先进技术中获益，实现卓越成果。

现在就联系我们，探讨您的定制 PECVD 解决方案！

FAQ

什么是管式炉及其工作原理？

管式炉是一种通过热源产生热量并通过炉管将热量传递给工件或介质的加热装置。它能提供稳定、均匀的加热，适用于各种工业应用。温度控制系统使用热电偶或其他传感器监测炉温，并将信号反馈给控制器，控制器会调节加热元件的功率输出，以保持精确的温度控制。

旋转管式炉的主要应用有哪些？

旋转管式炉广泛应用于粉末冶金、材料混合和化学反应等需要均匀加热和连续混合的领域。它们对于处理颗粒状或粉末状材料尤为有效。

旋转炉的原理是什么？

回转炉是一个绕轴旋转的圆柱体，略微倾斜以方便装料从一端移动到另一端。这种设计可促进混合和均匀加热。热量通常由与物料流逆向流动的热气提供。

旋转炉有哪些用途？

旋转炉用于各种工艺，包括渗碳（在金属表面添加碳）、渗氮（在金属表面添加氮）、烧结、退火和其他先进的材料处理。它还可用于生物质热解、活性炭再生和半导体研究中的精密薄膜沉积等应用。

多区管式炉的主要应用有哪些？

多区管式炉用于各种商业和研究应用，包括半导体和电池生产、热电偶和矿物绝缘电缆制造、真空钎焊和热处理、真空固化和烧结、水/废水/土壤测试、航空陶瓷和金属测试、油气分析、固体氧化物燃料电池以及聚合物复合材料/石墨烯生产。它们还可用于金属热处理（淬火、回火、退火）、焊接预热、陶瓷/粉末冶金烧结、涂层处理和材料研究实验。

分管炉的常见应用有哪些？

分管炉通常用于材料测试（如拉伸测试）、有机材料热解、用于薄膜沉积的化学气相沉积 (CVD)、含碳材料的石墨化以及陶瓷烧结。这些应用都得益于分管炉精确的温度控制和简便的样品处理。

什么是立式管式炉？

立式管式炉是一种高温加热设备，设计成垂直方向，可提供精确的温度控制、均匀的加热和高效的能源利用。其垂直设计可节省空间，特别适用于需要垂直设置的工艺。

管式炉的主要应用有哪些？

管式炉广泛用于真空或大气条件下的气淬试验、热处理应用（包括合成和提纯）、氧化、扩散、煅烧以及无机或有机化合物的热退火。它们还可用于需要控制加热和冷却速度的材料测试、热加工和化学反应。立式管式炉尤其适用于需要将样品从顶部投入炉内的工艺。

旋转管式炉有哪些主要特点？

旋转管式炉具有旋转机构，可确保均匀的热量分布和样品的彻底混合。它专为连续加工而设计，可容纳各种体积的样品。这种炉通常包括多个加热区、可旋转和倾斜的炉管，温度最高可达 1200°C。

使用旋转炉有哪些优势？

回转炉具有多种优势，包括能源利用率高、处理各种进料的灵活性、批量炉能力、高产能、提高铅回收率、环保以及操作简便且所需人力较少。

旋转炉有哪些主要类型？

旋转炉的主要类型包括用于热解和煅烧的电旋转窑、用于连续加工的真空密封旋转管式炉、实验室真空倾斜旋转管式炉、分体式多加热区旋转管式炉和倾斜旋转等离子体增强化学沉积（PECVD）管式炉。每种类型都是针对特定应用和温度要求而设计的。

多区管式炉有哪些主要特点？

主要特点包括1) 灵活的退火和化学气相沉积功能；2) 可容纳最大 60 毫米（2 英寸）的样品；3) 内置歧管，便于气体输送；4) 具有自然温度梯度，两端较冷，中间加热均匀；5) 可适应各种气体或真空条件；6) 多个独立控制的加热区，可实现精确的温度曲线。

分管炉有哪些主要特点？

分管炉通常提供 1、2、3 或 5 个加热区，加热长度为 200-600mm，加热直径为 40-100mm。它包括双层强制空气冷却装置，以确保安全的外壳温度，并使用加热线圈作为加热源，最高温度可达 1200°C。分体式窑炉的设计是将圆柱形管纵向分开，通常分为两半，用铰链连接，并配备气动阻尼支柱，以确保平稳运行。

立式管式炉有哪些应用？

立式管式炉广泛用于需要控制加热和冷却速度的材料测试、热加工和化学反应。它们还用于化学工程中的合成树脂、橡胶、油漆和染料生产；食品工业中的烘烤、干燥和灭菌；以及冶金业中的熔炼、熔化和热处理过程。

使用管式炉有哪些优势？

管式炉具有技术成熟、炉体结构简单、能耗低、热效率高、操作和控制简便、可连续生产、温度控制精确、温度分布均匀、适应不同气氛等优点。此外，它们还能获得更高的产品产量、更高的产品浓度，并能回收大部分裂解气和烟气。可将多个炉子组合起来进行大规模生产。

转管炉如何工作？

旋转管式炉的工作原理是间接燃烧，热量通过旋转管从热源传递到材料。它们使用带有多个控制区的连续热系统，以确保均匀加热。管式炉在其工作区燃烧粉碎的固体、气体或液体燃料，产生加热气体流向样品。内衬耐火材料并以一定角度安装的旋转鼓为这一过程提供了便利。

旋转炉有哪些主要特点？

旋转炉的主要特点包括高温能力、多区加热控制、可定制的旋转和过程控制、气氛多功能性以及集成的安全和环境控制。

旋转炉如何工作？

旋转炉通过旋转炉内的材料来确保热量均匀分布。旋转机构有助于实现一致的径向温度和精确的温度控制，通常通过电加热来实现。这种设计非常节能，适用于需要均匀处理材料的工艺。

多区管式炉如何工作？

多区管式炉的工作原理是1) 通过多个独立控制的加热元件产生热量；2) 通过炉管将热量均匀地传递给工件；3) 形成精确的温度梯度（用于 CVD 薄膜生长等过程）或扩展的恒温区（当多个区设置为相同温度时）；以及 4) 保持适合各种工业过程的稳定加热条件。

分管炉如何工作？

分管炉的工作原理是通过加热线圈产生热量，然后将热量传递给炉管内的工件或介质。这一过程可确保稳定、均匀的加热，因此适用于各种工业和实验室应用。该炉可配置多个加热区，并具有强制空气冷却等功能，以保持安全的外部温度。

立式管式炉有哪些优势？

立式管式炉具有多种优势，包括与卧式炉相比占地面积更小，非常适合空间有限的实验室。它们还具有高效节能、温度控制精确、使用灵活、操作简便、安全可靠以及符合环保标准等优点。

管式炉有哪些类型？

管式炉有多种类型，包括实验室石英管式炉、分体式多加热区旋转管式炉、多区管式炉、高温管式炉（高达 1700°C）、用于薄膜沉积的 PECVD 管式炉、真空管式炉和立式管式炉。这些管式炉具有不同的功能，如快速加热、可调倾斜、360° 旋转、可定制的加热区和真空准备状态，以适应不同的应用。

使用旋转管式炉有哪些优势？

转管炉具有多个优点，其中包括由于其旋转作用而产生的均匀温度分布，可防止样品沉降并确保稳定的处理过程。它提高了热传导效率，从而缩短了处理时间，使结果更加均匀。此外，它的设计可实现出色的热传导效率，并可根据特定需求定制多个加热区。

回转炉的常见应用有哪些？

旋转管式炉在粉末冶金、材料混合和化学反应中特别有用，因为在这些应用中，均匀加热和连续混合是必不可少的。它们还可用于加工颗粒状或粉末状材料，生产氧化铝和铁矿球团等材料，并在煅烧和氧化等需要连续处理松散材料的应用中表现出色。

使用多区管式炉有哪些优势？

优点包括1) 技术成熟可靠，炉体结构简单；2) 能耗低，热效率高；3) 操作简便，控制精确；4) 能够连续生产；5) 能够创建扩展的均匀加热区或精确的温度梯度；6) 化学工艺中的产品产量更高；7) 能够回收工艺气体；8)广泛的原料适用性，以及 9) 通过炉子组合实现大规模生产的可扩展性。

使用分体式管式炉有哪些优势？

分体式管式炉的主要优点包括简化样品或设备的装卸、减少停机时间和提高效率。分体式设计允许快速进入炉膛，这对于需要频繁更换或复杂实验设置的应用尤其有利。此外，气动阻尼支柱和多加热区等功能进一步提高了可用性和性能。

立式管式炉如何工作？

立式管式炉通过热源产生热量，并通过炉管将热量传递给被加热的工件或介质。这一过程可确保稳定、均匀的加热，因此适用于各种工业应用。

管式炉可以达到哪些温度范围？

管式炉有各种温度范围可供选择，以适应不同的应用。标准炉型的温度通常最高可达 1200°C，而高温炉型的温度可达 1400°C 至 1700°C。一些专用炉型甚至可以达到 2000°C。温度能力取决于所使用的加热元件和炉管材料（如石英或氧化铝）。

旋转管式炉可以达到什么温度？

旋转管式炉的最高温度可达 1200°C，因此适用于煅烧、烧结和热处理等高温应用。

回转炉如何处理不同的材料？

回转炉采用旋转和略微倾斜的设计，可确保均匀加热和混合，因此可灵活处理各种进料。这使其适用于各种材料，包括颗粒状或粉末状物质，并可在煅烧和氧化等应用中进行高效处理。

旋转炉具有哪些安全功能？

旋转炉配备了重要的安全功能，如过热保护、紧急关闭装置和清晰的警报系统。这些功能可确保安全操作，防止高温过程中发生事故。

有哪些类型的多区管式炉？

现有类型包括1) 分离式多加热区旋转管式炉（具有倾斜和旋转功能）；2) 实验室石英管式炉（最高 1700°C，1-10 区）；3) 快速热处理 (RTP) 炉，加热速度快；4) 用于化学气相沉积的 CVD 管式炉；5) 用于等离子增强工艺的 PECVD 炉；6) 真空管式炉；7) 高压管式炉。这些管式炉有各种配置，可定制区数、温度范围以及真空/大气控制等特殊功能。