CVD和PECVD炉
倾斜旋转等离子体增强化学气相沉积 PECVD 管式炉设备
货号 : KT-PED
价格根据 规格和定制情况变动
- 加热温度
- ≤800℃
- 真空度
- ≤5×10-5Pa
- 输出功率
- 500W—1000W
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等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 镀膜机


KINTEK 先进的 PECVD 系统:精密镀膜,为您量身定制
凭借卓越的研发和自主制造能力,KINTEK 提供尖端的等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 系统,专为满足各种实验室和工业应用而设计。PECVD 是一种复杂的真空薄膜沉积技术,利用等离子体激活前驱体气体。这使得能够在比传统化学气相沉积 (CVD) 显著更低的温度下创建高质量、均匀的涂层,从而扩展了对热敏感基底(如塑料)和多种涂层材料(包括电介质、半导体和绝缘体)的应用可能性。
我们的 PECVD 设备是 KINTEK 全面先进高温炉解决方案系列中的核心产品,该系列还包括马弗炉、管式炉、旋转炉、真空及气氛炉,以及其他 CVD/MPCVD 系统。我们以强大的深度定制能力为荣,确保您的 PECVD 系统经过精密工程设计,以满足您独特的实验和生产需求。
主要特点
KINTEK 的等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 镀膜机提供了一系列旨在实现卓越性能和多功能性的特点:
- 低温沉积: 能够在易碎或低熔点基底上形成高质量薄膜,且不会造成热损伤,显著拓宽了材料兼容性。
- 高沉积速率: 实现快速薄膜生长,最大化产量,缩短处理时间,并提高整体生产力。
- 均匀且抗裂的薄膜: 在整个基底上产生厚度和性能具有卓越一致性的涂层,最大限度地减少开裂等缺陷,确保可靠耐用的结果。
- 优异的基底附着力: 确保沉积薄膜与基底材料之间牢固结合,从而实现长期性能并防止分层。
- 多功能镀膜能力: 支持沉积多种材料,如 SiO2、SiNx、SiOxNy 等,满足不同的应用需求。
- 复杂几何形状的保形涂层: 能够均匀涂覆具有复杂形状和形貌的基底,确保全面覆盖和最佳性能。
- 用户友好型设计: 专为低维护要求和简便安装而设计,最大限度地减少停机时间并简化集成到您的工作流程中。
技术规格
| 样品架 | 尺寸 | 1-6 英寸 |
| 旋转速度 | 0-20rpm 可调 | |
| 加热温度 | ≤800℃ | |
| 控制精度 | ±0.5℃ SHIMADEN PID 控制器 | |
| 气体清洗 | 流量计 | 质量流量控制器 (MFC) |
| 通道 | 4 通道 | |
| 冷却方式 | 循环水冷却 | |
| 真空腔体 | 腔体尺寸 | Φ500mm X 550mm |
| 观察窗 | 带挡板的全视窗 | |
| 腔体材质 | 316 不锈钢 | |
| 门类型 | 前开门式 | |
| 盖材质 | 304 不锈钢 | |
| 真空泵接口 | CF200 法兰 | |
| 进气口 | φ6 VCR 接头 | |
| 等离子体电源 | 源功率 | 直流电源或射频电源 |
| 耦合模式 | 电感耦合或极板电容耦合 | |
| 输出功率 | 500W—1000W | |
| 偏压功率 | 500v | |
| 真空泵 | 前级泵 | 15L/S 旋片真空泵 |
| 分子泵接口 | CF150/CF200 620L/S-1600L/S | |
| 泄压口 | KF25 | |
| 抽速 | 旋片泵:15L/s,分子泵:1200l/s或1600l/s | |
| 真空度 | ≤5×10-5Pa | |
| 真空传感器 | 电离/电阻真空计/薄膜计 | |
| 系统 | 电源 | AC 220V /380 50Hz |
| 额定功率 | 5kW | |
| 尺寸 | 900mm X 820mm X870mm | |
| 重量 | 200kg |
应用
KINTEK 的等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 镀膜机为广泛的行业和尖端应用提供了多功能解决方案:
- LED 照明: 沉积高质量电介质和半导体薄膜,这对于高效耐用的发光二极管 (LED) 至关重要。
- 功率半导体: 在功率半导体器件中形成绝缘层、栅极氧化物和其他关键薄膜组件。
- MEMS(微机电系统): 为传感器、致动器和其他微型器件制造精密薄膜。
- 光学镀膜: 沉积抗反射涂层、滤光片、保护层和其他功能性光学组件。
- 薄膜太阳能电池: 生产非晶和微晶硅薄膜以及其他半导体材料,用于光伏器件。
- 表面改性: 增强材料表面性能,包括提高耐腐蚀性、耐磨性、硬度和生物相容性。
- 纳米技术: 合成先进的纳米材料,如纳米颗粒、纳米线和超薄膜,用于新应用。
为何选择 KINTEK 作为 PECVD 技术合作伙伴?
选择 KINTEK 满足您的 PECVD 需求意味着投资于质量、可靠性和量身定制的解决方案:
- 深度定制: 我们专注于根据您的确切规格配置 PECVD 系统,确保针对您的独特应用和研究目标实现最佳性能。
- 先进的研发与制造: 我们内部的专业知识推动创新,使我们能够提供最先进的 PECVD 技术。
- 高质量构造: 我们的系统采用坚固设计,使用不锈钢等优质材料制造,确保稳定性、耐用性和延长的工作寿命。
- 可靠的性能: 专为提供一致的结果而设计,我们的 PECVD 机器可生产具有优异附着力的高质量、均匀薄膜。
- 全面支持: 从简便安装到低维护要求,我们确保我们的系统用户友好,并由响应迅速的客户服务提供支持。
- 多功能性: 我们的机器可以沉积多种材料,使其适用于各种研究和工业工艺。
工作原理
等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 是一种利用等离子体(电离气体)在薄膜沉积过程中刺激和增强化学反应的工艺。与完全依靠高温驱动反应的传统 CVD 不同,PECVD 采用高能等离子体。该等离子体激活前驱体气体,导致在显著更低的基底温度下形成活性物种。这些活性物种随后吸附在基底表面并发生化学反应,形成固体薄膜。该方法允许沉积各种高质量薄膜,如 SiO2、SiNx 和 SiOxNy,并且特别适用于创建太阳能电池中使用的非晶或微晶硅薄膜。较低的处理温度最大限度地减少了基底上的热应力,减少了针孔,并防止开裂,使 PECVD 成为更广泛材料和应用的理想选择。
使用 KINTEK 定制您的 PECVD 解决方案
准备好提升您的薄膜沉积能力了吗?KINTEK 的专家随时准备讨论您的具体项目需求和挑战。我们可以帮助您配置完全适合您的实验或生产要求的等离子体增强化学气相沉积系统。利用我们的深度定制专业知识和先进技术,获得卓越的成果。
行业领军企业信赖之选
FAQ
旋转管式炉的主要应用有哪些?
什么是管式炉及其工作原理?
旋转炉的原理是什么?
旋转炉有哪些用途?
多区管式炉的主要应用有哪些?
分管炉的常见应用有哪些?
什么是立式管式炉?
旋转管式炉有哪些主要特点?
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立式管式炉如何工作?
旋转管式炉可以达到什么温度?
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回转炉如何处理不同的材料?
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有哪些类型的多区管式炉?
分管炉可以达到什么温度?
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管式炉能否在不同气氛下运行?
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为什么分体式设计有利于管式炉?
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