产品 High Temperature Furnaces Atmosphere Furnace 1200℃ 受控惰性氮气氛炉
1200℃ 受控惰性氮气氛炉

Atmosphere Furnace

1200℃ 受控惰性氮气氛炉

货号 : KT-12A

价格根据 规格和定制情况变动


最高温度
1200℃
温度控制精确度
±1℃
温度均匀性
±5℃
ISO & CE icon

运输:

联系我们 获取运输详情 享受 准时发货保证.

获取报价

KINTEK 1200℃ 可控气氛炉:高精度、多功能和定制化

在 KINTEK,我们利用卓越的研发和内部制造为各种实验室提供先进的高温炉解决方案。我们的可控气氛炉设计精密可靠,适用于您的关键工艺。

产品概览和详细信息

可控气氛炉 可控气氛炉 1 可控气氛炉 2 可控气氛炉 3 可控气氛炉 4 可控气氛炉 5 可控气氛炉 6

KINTEK 1200℃ 可控气氛炉是一种多功能、高效的工具,专为需要精确气氛控制的各种高温过程而设计。它可将一种或多种气体(如 H2、Ar、N2、O2、CO、NH3)引入加热室,与被加热材料发生反应或保护其不受氧气和水蒸气的影响。当材料对氧化或其他大气反应敏感时,这种能力至关重要,可确保提高产品质量和减少缺陷。

该炉配备了精确的温度控制器和多晶氧化铝纤维炉腔等先进功能,是工业环境、科研机构和大学的理想之选。它的预抽真空功能进一步增强了其对一系列特殊工艺的适用性。

主要特点和优势

我们的 1200°C 可控气氛马弗炉具有卓越的性能、安全性和易用性:

  • 精确的气氛和温度控制:
    • 密封外壳采用硅凝胶密封件、水冷系统和流量计,可实现精确的气体管理(H2、Ar、N2、O2、CO、NH3)。
    • 重型真空室结构(0.1Mpa 真空压力),可将气体泄漏降至最低。
    • PID 可编程温度控制(精度为 ±1℃),可实现最佳热处理效果。
    • 7 英寸 TFT 智能触摸屏控制器(KT-12A Pro 型号),方便用户进行程序设置和数据分析。
  • 高效均匀的加热:
    • 带有风冷系统的双层外壳,加热/冷却速度快,表面温度低。
    • Kantal(Cr2Al2Mo2 线卷)电阻加热元件和多晶氧化铝纤维腔体可实现最佳的温度均匀性(±5℃),能效最高可达 1200℃。
    • 加热速度为 0-30℃/min
  • 强大的安全功能:
    • 过流保护和过温报警,自动断电。
    • 热耦合断裂/故障检测,加热停止并报警。
    • 安全联锁系统:如果炉门打开、发生超温事件或传感器故障,则自动切断电源。
    • 断电重启功能(KT-12M Pro 型)可恢复加热程序。
  • 耐用的结构和设计:
    • 科学设计的控制面板,用于控制真空吸力和惰性气体压力/流量。
    • 陶瓷多晶纤维隔热衬垫可最大限度地减少热量损失。

应用

KINTEK 可控气氛炉在以下应用中不可或缺:

  • 气氛保护烧结: 非常适合在可控气氛下烧结材料,以防止氧化并提高材料性能。
  • 气氛还原工艺: 用于需要减少氧气的工艺,如生产某些合金或陶瓷。
  • 材料研发: 对于研究可控气氛对材料性能的影响至关重要。
  • 小批量生产: 对于半导体、氮化硅和其他对气氛控制要求较高的敏感材料至关重要。
  • 教育目的: 提供材料科学和工程方面的实践经验。
  • 需要特定气氛的一般热处理、钎焊、焊接和退火。

技术规格

炉型 KT-12A / KT-12A Pro
最高温度 1200℃
恒定工作温度 1100℃
真空压力 0.1Mpa
真空阀 针阀
炉管材料(如适用,通常用于管式炉) 高纯度石英(注:这是马弗炉,炉腔材料是关键)
炉膛材料 日本氧化铝纤维
加热元件 Cr2Al2Mo2 金属丝线圈
加热速率 0-30℃/min
温度传感器 内置 K 型热敏电阻
温度控制器 数字 PID 控制器/触摸屏 PID 控制器(KT-12A Pro)
温度控制精确度 ±1℃
温度均匀性 ±5℃
电源 AC110-220V,50/60HZ(可定制)
标准腔室尺寸(可定制)
箱体尺寸(毫米) 有效容积(升) 箱体尺寸(毫米) 有效容积(升)
100x100x100 1 300x300x400 36
150x150x150 3.4 400x400x400 64
150x150x200 4.5 500x500x500 125
200x200x200 8 600x600x600 216
200x200x300 12 800x800x800 512
接受客户设计的尺寸和数量。 联系我们 讨论您的具体要求。

标准包装

编号 说明 数量
1 熔炉 1
2 隔热箱/样品盘 1 套
3 坩埚钳 1
4 耐热手套 1 双
5 操作手册 1

可选设置

  • 独立的炉温监控和记录
  • 用于电脑远程控制和数据输出的 RS 485 通信端口
  • 特定的气体入口/出口,观察窗端口
  • 先进的触摸屏温度控制器,具有方便操作的多种功能(专业型标准配置)
  • 定制夹具和腔室配置

利用 KINTEK 满足您独特的实验需求

除标准产品外,KINTEK 还擅长于 深度定制 .无论您是需要特定的炉膛尺寸、先进的气氛控制,还是需要与其他设备集成,我们的研发和制造团队都能根据您的精确实验要求为您量身定制窑炉解决方案。我们广泛的产品线还包括马弗炉、管式炉、旋转炉、真空炉和 CVD/PECVD/MPCVD 系统。

准备好提高您的实验室能力了吗? 今天就联系我们 讨论您的应用,索取报价,或进一步了解我们的定制炉解决方案。我们的专家将帮助您找到完美的高温解决方案。

FAQ

气氛炉有哪些用途?

气氛炉广泛应用于材料加工、金属加工、半导体制造、太阳能电池生产、光学材料、陶瓷和玻璃工业、电子材料制造以及新能源材料的研发。

热压炉的原理是什么?

热压烧结炉在真空环境中将高温和高压相结合,对材料进行烧结。它对陶瓷粉末尤其有效,因为陶瓷粉末会在压力下熔化。该工艺利用可控的温度和压力确保材料的均匀流动和牢固结合,通常在真空环境中进行,以防止氧化。

气氛炉有哪些主要特点?

箱式气氛炉的主要特点包括能够保持特定的气体环境,如惰性气体(如氮气、氩气)、还原性气体(如氢气)或真空条件,以防止在加热过程中发生氧化、污染或不必要的化学反应。加热炉通常由耐高温箱体、加热元件和供气系统组成。先进的炉型可能包括可编程温度控制器、统一加热区和安全联锁装置,以确保运行可靠性。

热压炉有哪些应用?

热压炉可用于烧结和固结、粉末冶金、材料研究、半导体制造、陶瓷加工、石墨烯合成、复合材料生产、金刚石合成以及研发。

气氛炉如何工作?

管式炉通过热源产生热量,并通过炉管将热量传递给被加热的工件或介质。这种工艺可提供稳定、均匀的加热,适合各种工业应用。烧结的原理是将材料加热到低于其熔点的高温,使颗粒结合并形成固体结构。通过加热,有时也会施加压力,使材料密实和致密化,从而增强其机械和物理特性。

热压炉有哪些特点?

热压烧结炉的特点是,除加热和隔热部件外,炉体均采用强冷却结构,确保精确的温度控制和结构完整性。

使用气氛炉有哪些优势?

气氛炉的优点包括:通过调节气氛组件实现强大的环境控制能力;与真空炉相比成本更低;应用范围更广,适用于金属和陶瓷等各种材料。此外,气氛管式炉还具有温度控制精确、气氛控制灵活、加热效率高、节能环保、运行安全可靠、适用范围广、结构设计合理等优点。

为什么在热压炉中使用真空环境?

热压烧结炉采用真空环境,以防止烧结过程中发生氧化,从而确保生产出变形最小、材料结合牢固的高质量部件。

气氛炉可使用哪些类型的气体?

气氛炉可以保持特定的气体环境,如惰性气体(如氮气、氩气)、还原性气体(如氢气)或真空条件,以防止在加热过程中发生氧化、污染或不必要的化学反应。

热压炉通常加工哪些材料?

热压炉通常用于陶瓷粉末、金属、复合材料和其他需要在高温高压条件下进行烧结和粘合的材料。

先进的气氛炉有哪些安全功能?

先进的气氛炉可能包括可编程温度控制器、均匀加热区和安全联锁装置,以确保运行可靠性。程控气氛炉包括一个保护系统,可监控炉温和氧气含量等关键参数。如果出现任何异常,系统会自动关闭或触发警报,以保护炉子和炉内的样品。
查看更多该产品的问题与解答

4.8

out of

5

Incredible precision and durability! Perfect for high-temperature experiments. Worth every penny.

Elara Voss

4.7

out of

5

Fast delivery and top-notch quality. This furnace exceeded all my expectations!

Rafael Mendoza

4.9

out of

5

Cutting-edge technology with reliable performance. A game-changer for our lab!

Anika Patel

4.6

out of

5

Solid build and excellent temperature control. Highly recommend for serious researchers.

Lars Bjornsson

4.9

out of

5

Superb value for money! The nitrogen atmosphere control is flawless.

Yuki Tanaka

4.8

out of

5

Efficient and reliable. Delivered faster than expected. Very impressed!

Isabella Costa

4.7

out of

5

Outstanding furnace with advanced features. Perfect for demanding applications.

Dmitri Volkov

4.9

out of

5

Exceptional performance and build quality. A must-have for any high-tech lab!

Zara Al-Mansoori

产品

1200℃ 受控惰性氮气氛炉

PDF 格式 目录
下载

分类

Atmosphere Furnace

PDF 格式 目录
下载

获取报价

我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系!

相关产品

网带式可控气氛炉 惰性氮气氛炉

网带式可控气氛炉 惰性氮气氛炉

KINTEK 网带炉:用于烧结、淬火和热处理的高性能可控气氛炉。可定制、节能、精确控温。立即获取报价!

带石英管或氧化铝管的 1700℃ 高温实验室管式炉

带石英管或氧化铝管的 1700℃ 高温实验室管式炉

KINTEK 带氧化铝管的管式炉:精确加热至 1700°C,用于材料合成、CVD 和烧结。结构紧凑、可定制、真空就绪。立即浏览!

带石英和氧化铝管的 1400℃ 高温实验室管式炉

带石英和氧化铝管的 1400℃ 高温实验室管式炉

KINTEK 带氧化铝管的管式炉:用于实验室的精密高温处理,最高温度可达 2000°C。是材料合成、CVD 和烧结的理想之选。可提供定制选项。

用于化学气相沉积设备的多加热区 CVD 管式炉设备

用于化学气相沉积设备的多加热区 CVD 管式炉设备

KINTEK 的多区 CVD 管式炉为先进的薄膜沉积提供精确的温度控制。它是研究和生产的理想之选,可根据您的实验室需求进行定制。

电炉用二硅化钼 MoSi2 热加热元件

电炉用二硅化钼 MoSi2 热加热元件

用于实验室的高性能 MoSi2 加热元件,温度可达 1800°C,具有出色的抗氧化性。可定制、耐用、可靠,适合高温应用。

用于实验室排胶和预烧结的高温马弗炉

用于实验室排胶和预烧结的高温马弗炉

用于陶瓷的 KT-MD 型排胶和预烧结炉 - 温度控制精确、设计节能、尺寸可定制。立即提高您的实验室效率!

倾斜旋转式等离子体增强化学沉积 PECVD 管式炉设备

倾斜旋转式等离子体增强化学沉积 PECVD 管式炉设备

用于精确薄膜沉积的先进 PECVD 管式炉。均匀加热、射频等离子源、可定制的气体控制。是半导体研究的理想之选。

实验室用 1800℃ 高温马弗炉炉

实验室用 1800℃ 高温马弗炉炉

KINTEK 马弗炉:用于实验室的 1800°C 精确加热。节能、可定制、带 PID 控制。是烧结、退火和研究的理想之选。

用于实验室的 1400℃ 马弗炉窑炉

用于实验室的 1400℃ 马弗炉窑炉

KT-14M 马弗炉:采用碳化硅元件、PID 控制和节能设计,可精确加热至 1400°C。是实验室的理想之选。

用于实验室的 1200℃ 马弗炉窑炉

用于实验室的 1200℃ 马弗炉窑炉

KINTEK KT-12M 马弗炉:1200°C 精确加热,PID 控制。是需要快速、均匀加热的实验室的理想之选。了解更多型号和定制选项。

带底部升降装置的实验室马弗炉窑炉

带底部升降装置的实验室马弗炉窑炉

KT-BL 底部升降炉可提高实验室效率:1600℃ 的精确控制、卓越的均匀性和更高的生产率,适用于材料科学和研发领域。

真空密封连续工作旋转管式炉 旋转管式炉

真空密封连续工作旋转管式炉 旋转管式炉

用于连续真空处理的精密旋转管式炉。是煅烧、烧结和热处理的理想选择。最高温度可达 1600℃。

2200 ℃ 钨真空热处理和烧结炉

2200 ℃ 钨真空热处理和烧结炉

用于高温材料加工的 2200°C 钨真空炉。精确的控制、卓越的真空度、可定制的解决方案。是研究和工业应用的理想之选。

倾斜旋转式等离子体增强化学沉积 PECVD 管式炉设备

倾斜旋转式等离子体增强化学沉积 PECVD 管式炉设备

KINTEK 的 PECVD 涂层设备可在低温下为 LED、太阳能电池和 MEMS 提供精密薄膜。可定制的高性能解决方案。

1200℃ 分管炉 带石英管的实验室石英管炉

1200℃ 分管炉 带石英管的实验室石英管炉

了解 KINTEK 带有石英管的 1200℃ 分管炉,用于精确的高温实验室应用。可定制、耐用、高效。立即购买!

立式实验室石英管炉 管式炉

立式实验室石英管炉 管式炉

精密 KINTEK 立式管式炉:1800℃ 加热,PID 控制,可为实验室定制。是 CVD、晶体生长和材料测试的理想之选。

高压实验室真空管式炉 石英管式炉

高压实验室真空管式炉 石英管式炉

KINTEK 高压管式炉:精确加热至 1100°C,压力控制为 15Mpa。是烧结、晶体生长和实验室研究的理想之选。可提供定制解决方案。

1400℃ 受控惰性氮气氛炉

1400℃ 受控惰性氮气氛炉

KT-14A 可控气氛炉,用于实验室和工业。最高温度 1400°C,真空密封,惰性气体控制。可提供定制解决方案。

1700℃ 受控惰性氮气氛炉

1700℃ 受控惰性氮气氛炉

KT-17A 可控气氛炉:通过真空和气体控制实现 1700°C 精确加热。是烧结、研究和材料加工的理想之选。立即浏览!

可控惰性氮氢气氛炉

可控惰性氮氢气氛炉

了解 KINTEK 的氢气气氛炉,在受控环境中进行精确烧结和退火。温度高达 1600°C,具有安全功能,可定制。