对于需要在高温过程中进行精确环境控制的行业来说,气氛炉是必不可少的。KINTEK 提供各种气氛炉,包括
- 网带式可控气氛炉:非常适合惰性气体保护的连续烧结和热处理。
- 1200℃-1700℃ 可控气氛炉:为各种研究和工业应用提供精确温度控制的系列。
- 氢气气氛炉:专门用于要求还原环境温度高达 1600°C 的工艺。
- 真空热压炉:将气氛控制与压力相结合,用于先进的材料致密化。
这些系统广泛应用于材料科学、半导体制造和能源研究领域。
对于需要在高温过程中进行精确环境控制的行业来说,气氛炉是必不可少的。KINTEK 提供各种气氛炉,包括
这些系统广泛应用于材料科学、半导体制造和能源研究领域。
KINTEK 的气氛炉代表了受控环境加热技术的顶峰,旨在满足最苛刻的研究和生产要求。我们的系统在创造精确控制的气氛(无论是惰性气氛、还原气氛还是真空气氛)方面表现出色,可促进无氧化或无污染的关键工艺。
1.精密气氛控制系统 我们的窑炉采用了先进的气体混合和监测系统,能够非常精确地保持气氛成分。专有的气体分布设计可确保气氛均匀地渗透到整个工作腔,这对于在以下方面获得一致的结果至关重要:
2.多层热管理 我们的窑炉采用创新的加热元件配置和耐火材料,可实现
3.智能安全架构 集成保护系统可持续监控
特定应用解决方案 材料研究
我们的 1700℃ 系列具有超低氧气能力(<5ppm),可进行纯金属和合金研究,不会产生氧化伪影。模块化设计适用于特殊实验的定制石英或氧化铝反应管。 工业生产
粉末冶金零件 吞吐能力高达 100 公斤/小时,气氛循环系统可减少 40% 的气体消耗。
先进的陶瓷烧结
集成气体净化系统
- 区域服务中心提供全天候技术支持
迈出材料创新的下一步 无论您是开发新一代电池还是生产精密航空航天部件,KINTEK 都能为您提供气氛炉解决方案,提升您的工作水平。我们的应用工程师随时准备帮助您配置满足您特定要求的理想系统。
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