产品 High Temperature Furnaces Vacuum Hot Press Furnace 真空热压炉加热真空压力机
真空热压炉加热真空压力机

Vacuum Hot Press Furnace

真空热压炉加热真空压力机

货号 : KT-VHP

价格根据 规格和定制情况变动


工作温度
1500℃ / 2200℃(最高,取决于大气环境)
工作压力
10-400T (可定制,最高 800T)
真空压力
最高 6x10^-3Pa(可选择更高的真空度)
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为什么选择我们

简易的订购流程、优质的产品和专业的支持,助力您的业务成功。

流程简单 品质保证 专业支持

凭借卓越的研发和内部制造能力,KINTEK 为各种实验室提供先进的高温炉解决方案。我们的产品系列包括马弗炉、管式炉、回转炉、真空炉和气氛炉以及 CVD/PECVD/MPCVD 系统,并辅以强大的深度定制能力,以精确满足独特的实验要求。

KINTEK 真空热压炉介绍

在 KINTEK,我们深知先进材料加工的关键作用。我们的真空热压炉是最先进的系统,经过精心设计,可在精确控制的真空或大气条件下对材料进行加热和加压。这一工艺是实现优异材料密度、增强机械性能和全面提高各种应用性能的关键。无论您使用的是金属、陶瓷还是复合材料,我们的窑炉都能为您提供所需的可靠性和精确性。

如果您正在寻找适合您独特实验或生产需求的窑炉解决方案,KINTEK 的深度定制能力可以为您提供帮助。 现在就联系我们 讨论您的具体要求。

视觉展示:探索真空热压炉

近距离了解我们的真空热压炉坚固的工程设计和周到的设计。下面的图片重点展示了其关键部件和整体结构。

真空热压炉整体系统

我们的真空热压炉设计精密、经久耐用、易于使用。主要结构亮点包括

  • 坚固的炉体: 带有水冷夹套的双壳结构。内壳由精细抛光的不锈钢制成,确保了清洁的加工环境。外壳由经过防锈处理的优质碳钢或经过喷砂处理的不锈钢制成,使用寿命长。
  • 高效加热系统: 采用石墨或钼丝加热元件,可配置为单相或三相加热。加热元件的合理设计可促进炉腔内温度的均匀分布。
  • 先进的控制系统: 窑炉通过用户友好型电气控制系统进行操作。温度和压力可通过 PLC 模拟控制进行管理,也可通过温度和压力可编程控制器实现整个烧结过程的自动化。为确保安全运行,还集成了断水、过温和过流等综合报警和保护功能。

炉腔和压制细节

控制面板界面

液压系统组件

炉内视图

真空系统连接

压制机构详图

炉顶组件

用于热压的石墨模具
石墨模具

了解真空热压炉:工作原理和实现目标

KINTEK 真空热压炉是经过精心设计的全套设备,可在真空或受控气氛中同时对材料进行加热和加压。这种复杂的工艺可实现

  • 精确的环境控制: 根据材料和所需结果,加热元件可以是石墨加热器、钼加热器或感应加热系统。通过液压实现加压,可单向或双向加压。
  • 微观层面的材料转化: 在高温、高压和受控环境(真空或大气)下,原材料固体颗粒开始相互结合。这促使晶粒生长,而空隙(气孔)和晶界逐渐缩小。
  • 致密化和增强性能: 在此过程中,通过材料的转移,材料的总体积缩小,密度显著增加。其结果是形成具有特定理想微观结构的致密多晶烧结体。这种转变显著提高了成品材料的密度、硬度以及其他重要的机械、电子和热性能。

我们的真空热压炉能使材料发生如此深刻的变化,从而使您能够生产出具有卓越特性的材料,完全满足苛刻的应用要求。

主要优势和先进功能:为什么选择我们的 KINTEK 炉?

我们的真空热压炉可提供卓越的性能、可靠性和效率,为您的运营带来巨大价值:

  • 多功能材料处理: 支持多种热处理工艺,适用于各种材料(金属粉末、无机非金属材料等)和行业。其多用途设计意味着它还可用作简单的真空或气氛烧结炉,确保适应不断变化的研究或生产需求。
  • 高效高速循环: 可设计用于促进高速循环,可能包括用于快速冷却的高压气体淬火功能,从而缩短周转时间并提高生产率。
  • 优化能源和资源利用: 专为降低能耗和工艺气体消耗而设计。先进的隔热材料导热率低,可有效隔绝热量,降低能耗,是一种具有环保意识和成本效益的解决方案。
  • 精确控制,效果卓越:
    • 通过精确的温度和压力调节,实现始终如一的高质量结果。温度控制(最高可达 2800°C,取决于加热元件和气氛)和压力由进口品牌的程序仪器和 PLC 进行管理,可根据预设程序实现自动化烧结过程。
    • 加热元件设计合理(可选择石墨、钼、钨、感应加热),确保腔内温度分布均匀,从而实现材料的均质加工。
  • 坚固耐用、用户友好的设计:
    • 增强了耐用性和温度稳定性: 采用双层 SUS304 不锈钢真空室结构,夹套冷水循环冷却方式可保持炉子表面温度较低,确保使用寿命。
    • 稳定精确的加压: 双柱支撑结构和稳定的液压系统可实现精确的压力调节(手动或自动控制),并可在整个过程中进行维护。
    • 简化操作和维护: 直观的电气控制系统,人性化的配置(手动/智能操作选项),以及简单的模块化设计,使安装、操作和维护更加简便。
  • 可定制的真空系统: 提供多样化的真空系统配置(如双级真空泵、油扩散泵和内部设计的高真空挡板阀),可实现各种真空度(如低至 6x10 -3 Pa)。
  • 灵活的运行能力:
    • 可在真空、惰性气氛或还原气氛下进行热压烧结,并提供充放气系统。
    • 提供多种可选功能类型,包括垂直上部出料、垂直侧面出料、单向加压和双向加压,以适应各种实验设置。
  • 安全可靠: 控制系统具有全面的声光报警功能,可对断水、过温、过流和热电偶自动开关故障等异常现象进行报警。预测性维护措施有助于减少停机时间,延长设备使用寿命。

准备好利用这些先进功能优化您的材料加工过程并获得优异的材料性能了吗? 请与 KINTEK 联系,了解更多信息或讨论您的定制需求!

跨行业的广泛应用

KINTEK 真空热压炉是一种用途广泛、功能强大的工具,适用于各行各业的高温工艺。它能够在真空或受控气氛中运行,因此特别适合需要精确温度控制和洁净环境的应用。主要应用领域包括

  • 晶体生长: 是合成和生长各类晶体的理想工具,对电子和半导体行业至关重要。
  • 高级热处理: 用于金属、合金和陶瓷的热处理,以提高其机械性能,如硬度、延展性和强度。
  • 薄膜沉积支持: 可用于制造电子设备、太阳能电池和光学涂层等需要致密化基底或靶材的相关工艺中。
  • 材料科学研究: 广泛应用于实验室的新材料研发,包括先进陶瓷、复合材料、金属间化合物和超合金。
  • 粉末冶金: 烧结和致密化金属粉末以及生产高性能部件所必需的。
  • 电子制造: 对电子元件的退火、烧结等工艺以及特种电子材料的生产至关重要。
  • 特种玻璃和陶瓷制造: 用于生产特种玻璃和陶瓷,以及通过受控热处理和压力改变其特性。
  • 特种材料生产: 为航空航天、国防和医疗设备等高要求领域提供具有独特性能的材料。
  • 学术和研究机构: 大学实验室和研究中心的主要设备,用于先进材料的研究、开发和小规模生产。

详细结构和组件

我们的电炉可采用石墨加热或电阻丝加热,擅长在真空和高温热压条件下烧结金属粉末、无机非金属材料等。它还可以在保护气氛下进行热压烧结,有效促进材料致密化、防止变形并控制晶粒大小,尤其适用于纳米粉体。

总体规格
  • 该炉采用垂直炉体进行加热。加压能力从 5 吨到 800 吨不等,加压方式分为单向和双向。进料和出料配置包括顶部和侧面选项。系统由炉体、液压系统、真空系统、加热系统、水冷系统和电子控制系统组成。
炉壳
  • 采用双层水冷结构。内层由经过严格抛光的不锈钢制成,外层则由经过喷砂亚光处理的不锈钢或带有防锈涂层的碳钢制成。冷却水在这两层之间循环,确保炉壳表面温度不超过 60°C。炉盖通过机械装置升起,并可手动向后旋转打开(单向压力炉型),同时配有安全锁定装置。
炉侧通道和监控
  • 炉侧配有观察窗、热电偶自动进出装置、红外线温度计和水冷电极(用于三相加热)。热电偶的自动进出装置采用电动操作,可自动切换高温和低温。为了提高炉温异常时的安全性,还安装了过温保护热电偶。
加热元件
  • 由石墨管(或钼丝)制成,设计用于单相或三相加热。加热元件的合理设计大大提高了炉内温度的均匀性。
保温层
  • 由石墨(或石墨纸)和碳毡等材料制成,具有出色的隔热性能。独特的结构设计有助于缩短抽真空时间。对于钼丝热压炉,隔热层由金属反射屏组成。
真空系统
  • 包括一个双级真空泵装置(通常是一个油扩散泵和一个机械泵),以实现高真空和低真空。系统使用 KINTEK 设计和生产的高真空挡板阀,可实现高真空和低真空的自动切换和控制,并与数字显示真空计和 PLC 集成。
电控系统主回路
  • 主电路采用低压大电流输入。电控柜参照威图标准柜制造,强调以人为本的设计。控制面板包括图形模拟屏幕和按钮,操作直观。温度和压力控制由进口品牌的程序仪器进行管理。机柜配有 PLC,可根据预设程序自动完成烧结过程。控制系统具有完善的声光报警功能,可对断水、过温、过流、热电偶自动切换故障等异常情况进行报警。

技术规格

工作温度 1500℃ / 2200℃(最高,取决于气氛)
加热元件 钼/石墨(可选钨、感应等其他加热元件)
工作压力 10-400T (最高可定制至 800T)
压制距离 100-200 毫米(可定制)
真空压力 最高 6x10 -3 帕(可选更高真空)
有效工作区直径范围 90-600 毫米(可定制)
有效工作区高度范围 120-600 毫米(可定制)

注:规格可定制,以满足特定的实验或生产要求。

准备好提高您的材料加工能力了吗?

KINTEK 真空热压炉具有无与伦比的精度、效率和多功能性,可满足您的先进材料加工需求。我们致力于卓越的研发、内部制造和强大的深度定制能力,致力于帮助您实现卓越的成果,推动材料科学的发展。

迈出优化实验和生产的下一步。 立即联系我们 讨论您的具体要求,索取详细报价,或进一步了解我们先进的熔炉解决方案如何使您的实验室或设备受益。让 KINTEK 成为您的创新合作伙伴!

FAQ

什么是真空热压机,它是如何工作的?

真空热压机是一种结合热量、压力和真空环境来粘合或增密材料的专用机器。其工作原理是将材料置于真空室中,抽空空气以创造低压环境,然后同时施加热量和压力,以获得所需的材料特性,如增加密度或提高机械强度。

真空炉的主要应用有哪些?

真空炉主要用于真空淬火(回火、退火),以获得所需的材料特性;真空钎焊,用于低于母材熔点的焊接;真空烧结,将金属粉末颗粒粘合成零件;真空加磁,用于金属和磁性材料处理。它们还广泛应用于半导体器件、光学薄膜、功能涂层、纳米材料等领域,为材料制备和功能改进提供了重要的技术支持。

热压炉的原理是什么?

热压烧结炉在真空环境中将高温和高压相结合,对材料进行烧结。它对陶瓷粉末尤其有效,因为陶瓷粉末会在压力下熔化。该工艺利用可控的温度和压力确保材料的均匀流动和牢固结合,通常在真空环境中进行,以防止氧化。

气氛炉有哪些用途?

气氛炉广泛应用于材料加工、金属加工、半导体制造、太阳能电池生产、光学材料、陶瓷和玻璃工业、电子材料制造以及新能源材料的研发。

CVD 设备的原理是什么?

化学气相沉积(CVD)的原理是将含有薄膜元素和其他必要气体的气态或液态反应物的蒸汽引入反应室。通过提高温度、等离子体作用、光辐射或其他方式施加能量,在基底表面发生化学反应,生成新的固体物质,沉积成薄膜。CVD 炉的工作原理是将前驱气体引入炉腔,高温使这些气体在基底表面附近发生反应或分解。所需的材料以固体薄膜的形式沉积在基底上,而副产品和未使用的气体则通过排气或真空系统排出。

什么是真空感应炉?

真空感应炉是一种利用感应加热技术在真空环境中熔化金属的专用加热设备。其目的是去除杂质,防止氧化和污染,从而提高熔化金属的质量。

卧式真空炉的主要应用有哪些?

卧式真空炉主要用于: 1:1.退火:软化材料以提高延展性。2.烧结:将颗粒粘合形成固体结构。3.钎焊使用填充金属连接材料。4.热处理通过控制加热和冷却改变材料特性。它们还用于金属和合金的热处理、电子元件的制造、复合材料和陶瓷的加工以及金属和陶瓷的烧结。

真空热压机的主要组件有哪些?

关键部件包括1) 保持低压以防止污染的真空室;2) 用于精确控温的加热系统(电阻或感应);3) 用于均匀施压的压力机;4) 用于监控和调整温度、压力和真空度的控制系统。

真空炉有哪些主要特点?

真空炉能在极高的温度下加热材料(主要是金属),污染小,一致性高。材料可以垂直或水平装载。真空炉可采用间歇式或连续式设计,具体取决于冷却介质、装载量、温度和压力。真空炉有热壁和冷壁两种设计,冷壁真空炉的工作温度范围更高,加热和冷却速度更快,温度均匀性更好。

热压炉有哪些应用?

热压炉可用于烧结和固结、粉末冶金、材料研究、半导体制造、陶瓷加工、石墨烯合成、复合材料生产、金刚石合成以及研发。

气氛炉有哪些主要特点?

箱式气氛炉的主要特点包括能够保持特定的气体环境,如惰性气体(如氮气、氩气)、还原性气体(如氢气)或真空条件,以防止在加热过程中发生氧化、污染或不必要的化学反应。加热炉通常由耐高温箱体、加热元件和供气系统组成。先进的炉型可能包括可编程温度控制器、统一加热区和安全联锁装置,以确保运行可靠性。

使用 CVD 机器有哪些优势?

CVD 具有高纯度、均匀性和一致性的特点,因此适用于复杂几何形状的镀膜。它可用于半导体、航空航天和生物医学等行业。与 PVD 不同的是,CVD 不局限于视线范围内的应用,涂层在反应过程中与表面结合,从而产生优异的附着力。

真空感应炉的主要应用有哪些?

真空感应炉广泛应用于航空航天、冶金和材料研究等行业,用于金属和合金的熔化、烧结、热处理和钎焊等工艺。它们尤其适用于生产高纯度金属和先进材料。

卧式真空炉有哪些主要特点?

主要特点包括1.在极高温度下加热材料,污染小,一致性高。2.可垂直或水平装载材料。3.可根据冷却介质、装载量、温度和压力选择批量或连续设计。4.热壁和冷壁设计,冷壁炉的工作温度范围更高,加热和冷却速度更快,温度均匀性更好。5.对温度、压力和气氛的精确控制,集成了高质量的材料和先进的系统,经久耐用、高效可靠。

使用真空热压机有哪些优势?

主要优点包括:防止氧化和污染(对空气敏感材料至关重要)、高精度控制温度和压力、可调工作参数、保持恒温的能力以及生产出具有高质量表面和保持特性的材料。

真空炉如何工作?

真空炉的工作原理是抽走炉腔内的空气和气体,形成真空,从而防止氧化和污染。加热元件产生热量,温度控制系统对加热过程进行调节,以确保获得精确一致的结果。真空系统对炉腔进行抽气以形成真空,然后加热元件对炉腔进行加热,同时温度控制系统调节加热速度和保温时间,从而使材料在真空条件下进行加热。

热压炉有哪些特点?

热压烧结炉的特点是,除加热和隔热部件外,炉体均采用强冷却结构,确保精确的温度控制和结构完整性。

气氛炉如何工作?

管式炉通过热源产生热量,并通过炉管将热量传递给被加热的工件或介质。这种工艺可提供稳定、均匀的加热,适合各种工业应用。烧结的原理是将材料加热到低于其熔点的高温,使颗粒结合并形成固体结构。通过加热,有时也会施加压力,使材料密实和致密化,从而增强其机械和物理特性。

CVD 机器有哪些应用?

CVD 应用广泛,包括半导体器件生产(如氮化硅绝缘层)、光学涂层、保护涂层以及石墨烯和碳纳米管等具有独特电气、热和机械特性的先进材料。它还可用于以传统技术无法实现的方式沉积保形薄膜和修饰基底表面。其应用包括原子层沉积、集成电路、光伏设备、耐磨涂层、具有特殊性能的聚合物涂层、用于气体传感的金属有机框架以及用于水处理的膜涂层。

真空感应炉如何工作?

真空感应炉的工作原理是在炉腔内形成真空,以排除空气和气体,防止氧化。然后使用感应加热熔化金属。真空和感应加热相结合,可确保为高质量金属加工提供清洁、受控的环境。

卧式真空炉如何工作?

工作原理包括: 1. 排除炉腔内的空气和气体,形成真空,防止氧化和污染。2.加热元件产生热量,温度控制系统对加热过程进行调节,以确保获得精确一致的结果。3.真空系统对炉腔进行抽气以形成真空,加热元件对炉腔进行加热,同时温度控制系统对加热速度和保温时间进行调节,从而在真空条件下对材料进行加热。

哪些行业通常使用真空热压技术?

真空热压技术广泛应用于计算机技术、医疗、航空航天、国防和汽车行业。制造高强度、清洁、无焊剂的接头和部件的能力使这些行业受益匪浅。

使用真空炉有哪些优势?

真空炉的优点包括:在小范围内实现精确的温度控制,产品受碳、氧和其他气体的污染小,产品冷却(淬火)快,以及计算机控制过程以确保冶金的可重复性。此外,真空炉还提供了高纯度的加工环境,由于无需调节气氛,因此加工速度快,而且由于不受气氛影响,加工过程具有很强的可控性。

为什么在热压炉中使用真空环境?

热压烧结炉采用真空环境,以防止烧结过程中发生氧化,从而确保生产出变形最小、材料结合牢固的高质量部件。

使用气氛炉有哪些优势?

气氛炉的优点包括:通过调节气氛组件实现强大的环境控制能力;与真空炉相比成本更低;应用范围更广,适用于金属和陶瓷等各种材料。此外,气氛管式炉还具有温度控制精确、气氛控制灵活、加热效率高、节能环保、运行安全可靠、适用范围广、结构设计合理等优点。

CVD 设备有哪些主要特点?

CVD 炉的主要特点包括:高温能力(通常从 200°C 到 1500°C 以上)、精确的气流控制、气氛控制(真空、大气压或低压环境)、均匀加热以实现均匀的薄膜沉积,以及高效的排气系统以清除副产品和未反应气体。CVD 涂层工艺的主要特点包括在高温下应用以促进反应,通常在真空条件下进行。涂层前必须清除零件表面的污染物。

使用真空感应炉有哪些优势?

主要优点包括1.由于没有氧气和活性气体,加工过程无污染。2.精确的温度控制,结果一致。3.处理各种材料和工艺的多功能性。4.效率高,热损失最小。5.去除杂质,提高产品质量。

使用卧式真空炉有哪些优势?

优点包括1.无污染环境:真空消除了氧气和其他活性气体,防止氧化和污染。2.精确:温度控制系统确保加热的一致性和精确性。3.多功能性:适用于多种材料和工艺。4.效率高:最大限度地减少真空环境造成的热量损失和能源消耗。其他优点还包括:温度范围可控、温度在 1100-1500°C 之间均匀一致、产品受气体污染小、淬火冷却速度快、计算机控制过程可实现冶金可重复性以及防止高温氧化。真空环境还能最大限度地减少氧化和脱碳,使表面更清洁,材料更完整。

真空热压机可以加工哪些类型的材料?

真空热压机是加工金属、陶瓷和复合材料的理想设备。该技术尤其适用于对空气暴露敏感或需要精确控制其致密化和粘接过程的材料。

真空炉可处理哪些类型的材料?

真空炉主要用于金属加工,包括烧结、退火和钎焊。真空炉也适用于陶瓷、复合材料和其他先进材料,特别是在要求高纯度和精确温度控制的应用中,如半导体器件、光学薄膜和纳米材料。

热压炉通常加工哪些材料?

热压炉通常用于陶瓷粉末、金属、复合材料和其他需要在高温高压条件下进行烧结和粘合的材料。

气氛炉可使用哪些类型的气体?

气氛炉可以保持特定的气体环境,如惰性气体(如氮气、氩气)、还原性气体(如氢气)或真空条件,以防止在加热过程中发生氧化、污染或不必要的化学反应。

有哪些类型的 CVD 设备?

CVD 机器有多种类型,包括用于实验室金刚石生长的圆柱形谐振器 MPCVD 机器系统、用于化学气相沉积的定制多功能 CVD 管式炉、带液体气化器的滑动 PECVD 管式炉、真空热压炉机器、倾斜旋转等离子体增强化学沉积 (PECVD) 管式炉、带真空站的分室 CVD 管式炉,以及用于射频等离子体增强化学气相沉积的射频 PECVD 系统。每种类型都专为特定应用而设计,并具有独特的功能。

真空感应炉有哪些类型?

真空感应炉有多种设计,包括间歇式或连续式,热壁或冷壁配置。它们还可以根据冷却介质、负载大小、温度要求和压力条件进行定制,以满足特定的工业或研究需求。

卧式真空炉可处理哪些类型的材料?

卧式真空炉适用于加工各种材料,包括金属、合金、电子元件、复合材料和陶瓷。对于需要高温处理而又不会氧化或污染的材料,它们尤其有效。

真空热压机的温度和压力范围是多少?

根据型号的不同,真空热压机的温度最高可达 2800°C,压力最高可达 600 吨。特定的机器可能提供不同的范围,有些机器专门用于较低温度的应用(如用于层压的 500°C),而其他机器则可处理极端条件。

热壁真空炉和冷壁真空炉有什么区别?

热壁真空炉的加热元件和隔热材料位于真空室内部,而冷壁炉的这些元件位于真空室外部。与热壁设计相比,冷壁炉的工作温度范围更高,加热和冷却速度更快,温度均匀性更好。

先进的气氛炉有哪些安全功能?

先进的气氛炉可能包括可编程温度控制器、均匀加热区和安全联锁装置,以确保运行可靠性。程控气氛炉包括一个保护系统,可监控炉温和氧气含量等关键参数。如果出现任何异常,系统会自动关闭或触发警报,以保护炉子和炉内的样品。

为什么温度控制对真空感应炉非常重要?

精确的温度控制对于确保均匀加热、防止材料降解以及在熔化、烧结或热处理等过程中实现一致的结果至关重要。这些炉中的先进控制系统可在整个过程中保持精确的温度。

卧式真空炉的温度范围是多少?

卧式真空炉通常具有可控的温度范围,可达到 1100-1500°C 的均匀温度。根据设计和应用要求的不同,有些炉型甚至可以达到 2200°C 或更高的温度。

真空热压有哪些常见应用?

常见应用包括烧结、热压、材料粘接、真空钎焊、真空退火、真空脱气以及淬火和回火等各种热处理工艺。它还可用于晶片粘接、薄膜应用和创建层压结构。

真空炉能否针对特定应用进行定制?

是的,真空炉可根据冷却介质、负载大小、温度和压力要求进行定制。真空炉可设计为间歇式或连续式系统,可针对烧结、钎焊或热处理等特定应用进行定制,并可选择垂直或水平装载。

真空感应炉可以处理哪些材料?

这些炉子可以加工多种材料,包括金属、合金、陶瓷和复合材料。对于要求高纯度或对氧化敏感的材料,如钛、镍基合金和稀土金属,它们尤其有效。

真空环境如何有利于材料加工?

真空环境可以消除氧气和其他活性气体,防止材料氧化和污染。它还能更好地控制加工气氛,减少热量损失,并在不降低材料性能的情况下进行高温操作。
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超高真空不锈钢 KF ISO CF 法兰直管三通接头

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KINTEK 带氧化铝管的管式炉:用于实验室的精密高温处理,最高温度可达 2000°C。是材料合成、CVD 和烧结的理想之选。可提供定制选项。

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