CVD & PECVD Furnace
带真空站 CVD 设备的分室式 CVD 管式炉
货号 : KT-CTF12
价格根据 规格和定制情况变动
- 最高温度
- 1200℃
- 炉管直径
- 60 毫米
- 加热速率
- 0-20℃/min
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详情及部件
产品介绍
凭借卓越的研发和内部制造能力，KINTEK 可提供先进的高温炉解决方案，满足各种实验室需求。高温炉 带真空站的分室 CVD 管式炉 就是一个很好的例子，它是专为要求苛刻的化学气相沉积 (CVD) 应用而精心设计的多功能高性能系统。
该炉设计精密，使用方便。有利于研究的主要功能包括
- 分离式炉腔： 可直接接触反应样品，便于快速冷却，显著提高实验效率和产量。
- 高温能力： 采用高纯度石英管（标准直径 60 毫米，可定制选件），适合温度高达 1200°C 的过程。
- 精确的气体控制： 配备 4 通道 MFC 质量流量计，可准确、稳定地输送 CH4、H2、O2 和 N2 等源气体，实现一致的工艺结果。
- 集成真空站： 配备一个坚固耐用的 4L/S 旋片真空泵，能够达到 10 Pa 的最大真空压力，确保为各种真空过程提供最佳环境。
在 KINTEK，我们深知独特的实验要求需要灵活的解决方案。我们强大的深度定制能力意味着，尽管该系统具备材料科学、半导体加工和开拓性研发所需的先进功能，但我们还可以根据您的具体需求进一步定制。我们的专业技术涵盖全面的产品线，包括马弗炉、管式炉、旋转炉、真空炉和气氛炉，以及先进的 CVD/PECVD/MPCVD 系统，确保为您的工作提供完美的解决方案。
准备好提升您的研究能力或讨论 CVD 工艺的定制配置了吗？ 立即联系我们的专家 了解分室式 CVD 管式炉如何满足您的精确实验要求，并索取报价。
应用
带真空站的分室式 CVD 管式炉 CVD 机是一种多功能的先进设备，设计用于材料科学、半导体制造和研发领域的各种应用。该设备特别适用于需要精确控制温度、气体流量和真空度的工艺，是进行高质量材料合成和加工的重要工具。
- 纳米材料合成：该炉非常适合纳米线、纳米薄膜和其他纳米结构材料的生长，这些材料对先进电子和光电设备的开发至关重要。
- 真空镀膜：它被广泛用于在各种基底上沉积薄膜，包括金属膜、陶瓷膜和复合膜，这些薄膜对于增强材料在光学和电子学等应用中的性能至关重要。
- 电池材料加工：该炉适用于电池材料的干燥和烧结，这是生产高性能电池的关键步骤。
- 材料干燥和烧结：用于陶瓷、耐火材料和特种材料的高温烧结，确保这些材料的固结和致密化。
- 气氛和真空热处理：立式管式炉的结构允许对小型钢件进行淬火、退火和回火处理，以及立式 CVD 涂层，使其成为冶金工艺中的宝贵资产。
- 研发：它广泛应用于大学、研究所和工矿企业，用于进行高温实验、气氛烧结、还原气氛和 CVD/CVI 实验，为材料科学和技术的进步做出贡献。
特点
带真空站 CVD 设备的分室 CVD 管式炉是专为先进的化学气相沉积（CVD）工艺而设计的精密设备。该炉集成了尖端技术，可提高薄膜沉积的效率和质量，是研究和工业应用的理想之选。以下是其主要特点和优势：
- 高薄膜沉积率：利用射频辉光技术，该炉可显著提高薄膜沉积速率，最高可达 10Å/S。这种快速沉积对于高通量生产和研究至关重要，可节省时间并提高生产率。
- 大面积均匀性：该炉采用先进的多点射频进料技术和专门的气路分布，可确保高达 8% 的薄膜均匀性。这种均匀性对于在大面积基底上形成一致的高质量涂层至关重要，从而提高了所生产材料的可靠性。
- 稳定的沉积：设计采用了先进的半导体工业理念，使基底之间的偏差小于 2%。这种高水平的一致性对于需要精确和可重复结果的应用（如电子元件生产）至关重要。
- 稳定的过程控制：设备的高稳定性确保了 CVD 工艺的连续性和一致性。这种可靠性对于保持工艺完整性和降低运行过程中出现缺陷或故障的风险至关重要。
- 智能控制系统：集成控制系统由 Bonage 获得专利，包括采用闭环负反馈机制的高性能温度控制系统。该系统与高质量的进口电气元件相结合，提高了设备的整体性能和可靠性，使其几乎无需维护。
- 应用广泛：该炉适用于沉积各种类型的薄膜，包括金属、陶瓷和复合薄膜，支持连续生长工艺，并可轻松扩展等离子清洗和蚀刻等附加功能。这种多功能性使其成为满足各种研究和生产需求的宝贵资产。
原理
带真空站 CVD 设备的分室 CVD 管式炉是用于化学气相沉积（CVD）过程的高温真空炉。CVD 是一种通过气体或蒸汽的化学反应在基底上沉积薄膜材料的过程。带真空站的分体式 CVD 管式炉 CVD 设备采用分体式炉膛，便于在 CVD 过程中接触基底。真空站用于在炉腔内形成真空，这有助于去除杂质并提高沉积薄膜的质量。
优势
- 直观的样品观察和快速冷却：分体式炉腔可直接观察反应样品并快速冷却。
- 高温能力：最高工作温度可达 1200℃，应用广泛。
- 精确的气体控制：带有 CH4、H2、O2 和 N2 源的 4 通道 MFC 质量流量计可确保精确稳定的气体供应。
- 真空兼容性：真空站配备 4L/S 旋片真空泵，最大真空压力可达 10Pa，可进行各种真空处理。
- 高速加热和冷却：炉腔滑动系统有助于快速加热和冷却，从而实现高效的样品处理。
- 先进的温度控制：PID 可编程温度控制，精度极高，具有远程控制和集中控制功能。
- 用户友好界面：CTF Pro 控制器配备 7 英寸 TFT 触摸屏，提供直观的程序设置和数据分析。
- 多功能真空设置：不锈钢真空法兰带有可调整的端口，可容纳不同的真空泵站，以实现定制的真空环境。
- 高效节能：水冷系统和气体后流设计将能耗降至最低。
- 适用性广：适用于真空和大气保护下的 CVD、扩散和其他热处理。
安全优势
- Kindle Tech 管式炉具有过流保护和过温报警功能，炉子会自动关闭电源
- 炉子内置热耦合检测功能，一旦检测到破损或故障，炉子将停止加热并报警
- KT-CTF12 Pro 支持断电重启功能，故障后通电时炉子将恢复加热程序
技术规格
| 炉型 | KT-CTF12-60 |
|---|---|
| 最高温度 | 1200℃ |
| 恒定工作温度 | 1100℃ |
| 炉管材料 | 高纯度石英 |
| 炉管直径 | 60 毫米 |
| 加热区长度 | 1x450 毫米 |
| 炉腔材料 | 日本氧化铝纤维 |
| 加热元件 | Cr2Al2Mo2 金属丝线圈 |
| 加热速率 | 0-20℃/min |
| 热电偶 | 内置 K 型 |
| 温度控制器 | 数字 PID 控制器/触摸屏 PID 控制器 |
| 温度控制精确度 | ±1℃ |
| 滑动距离 | 600 毫米 |
| 气体精确控制装置 | |
| 流量计 | MFC 质量流量计 |
| 气体通道 | 4 个通道 |
| 流量 |
MFC1: 0-5SCCM O2
mfc2: 0-20scmch4 mfc3: 0- 100sccm h2 mfc4: 0-500 sccm n2 |
| 线性度 | ±0.5% F.S. |
| 重复性 | ±0.2% F.S. |
| 管路和阀门 | 不锈钢 |
| 最大工作压力 | 0.45 兆帕 |
| 流量计控制器 | 数字旋钮控制器/触摸屏控制器 |
| 标准真空装置（可选） | |
| 真空泵 | 旋片式真空泵 |
| 泵流量 | 4 升/秒 |
| 真空吸入口 | KF25 |
| 真空规 | 皮拉尼/电阻硅真空计 |
| 额定真空压力 | 10Pa |
| 高真空单元（可选） | |
| 真空泵 | 旋片泵+分子泵 |
| 泵流量 | 4L/S+110L/S |
| 真空吸入口 | KF25 |
| 真空规 | 复合真空计 |
| 额定真空压力 | 6x10-5Pa |
| 以上规格和设置均可定制 | |
标准包装
| 编号 | 说明 | 数量 |
|---|---|---|
| 1 | 熔炉 | 1 |
| 2 | 石英管 | 1 |
| 3 | 真空法兰 | 2 |
| 4 | 导管隔热块 | 2 |
| 5 | 导管隔热块挂钩 | 1 |
| 6 | 耐热手套 | 1 |
| 7 | 精确气体控制 | 1 |
| 8 | 真空装置 | 1 |
| 9 | 操作手册 | 1 |
可选设置
- 管内气体检测和监控，如 H2、O2 等
- 独立炉温监控和记录
- RS 485 通信端口，用于 PC 远程控制和数据输出
- 插入式气体进料流量控制，如质量流量计和浮子流量计
- 触摸屏温度控制器，具有方便操作的多种功能
- 高真空泵站设置，如叶片真空泵、分子泵、扩散泵
如需咨询定制服务或进一步了解 KINTEK 如何支持您的特定研究需求，请 填写联系表 或联系我们的专家团队。
FAQ
什么是管式炉及其工作原理？
多区管式炉的主要应用有哪些？
MPCVD 设备的原理是什么？
PECVD 设备有哪些用途？
真空炉的主要应用有哪些？
什么是立式管式炉？
气氛炉有哪些用途？
什么是真空感应炉？
CVD 设备的原理是什么？
管式炉的主要应用有哪些？
多区管式炉有哪些主要特点？
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CVD 设备有哪些主要特点？
管式炉可以达到哪些温度范围？
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真空炉可处理哪些类型的材料？
有哪些类型的立式管式炉？
气氛炉可使用哪些类型的气体？
真空感应炉有哪些类型？
有哪些类型的 CVD 设备？
管式炉能否在不同气氛下运行？
为什么 MPCVD 是金刚石生长的首选？
使用 PECVD 设备可以沉积哪些材料？
热壁真空炉和冷壁真空炉有什么区别？
为什么选择立式管式炉而不是卧式管式炉？
先进的气氛炉有哪些安全功能？
为什么温度控制对真空感应炉非常重要？
是什么让 KINTEK 管式炉与众不同？
为什么 PECVD 比其他沉积方法更受青睐？
真空炉能否针对特定应用进行定制？
立式管式炉可以达到哪些温度范围？
真空感应炉可以处理哪些材料？
垂直管式炉是否可以定制？
真空环境如何有利于材料加工？
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Incredible precision and speed! This furnace exceeded my expectations for lab efficiency.
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Top-notch quality and durability. A game-changer for our research team!
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Fast delivery and easy setup. The vacuum station works flawlessly.
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Worth every penny! The split chamber design is a brilliant innovation.
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Perfect for high-temperature applications. Highly recommend for advanced labs.
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Exceptional performance and reliability. Our experiments have never been smoother.
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Love the compact design! Saves space without compromising on power.
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The vacuum seal is impeccable. No leaks, no issues—just perfect results.
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Reliable and consistent performance. Our lab productivity has soared.
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Easy to operate and maintain. A fantastic investment for any lab.
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The temperature control is spot-on. Perfect for delicate experiments.
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Durable and built to last. This machine is a workhorse.
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Innovative design meets superior functionality. Absolutely love it!
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