CVD & PECVD Furnace
用于化学气相沉积设备的多加热区 CVD 管式炉设备
货号 : KT-CTF14
价格根据 规格和定制情况变动
- 最高温度
- 1400℃
- 加热区
- 2x450 毫米
- 温度控制精确度
- ±1℃
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了解 KINTEK 先进的多区 CVD 管式炉
在 KINTEK，我们利用卓越的研发和内部制造为各种实验室提供先进的高温炉解决方案。我们的多区 CVD 管式炉设计精密、可靠、适应性强，可帮助您改进研究和生产流程。
产品展示：多加热区 CVD 管式炉
管式 PECVD 设备典型反应室结构示意图 1.排气孔；2.尾端法兰；3.尾端水冷法兰；4.尾部密封法兰；5.尾部固定法兰；6.电极杆；7.石墨舟；8.石英炉管；9.前固定法兰；10.前水冷法兰；11.前进气法兰；12.炉门
什么是多区 CVD 管式炉？
多区化学气相沉积（CVD）管式炉是专门设计用于通过气体或蒸汽的化学反应在基底上沉积薄膜的实验室设备。多区 "设计的关键优势在于其多个独立控制的加热区。这样就可以精确控制炉内的温度曲线，这对许多 CVD 工艺来说都是至关重要的因素，因为温度会直接影响沉积薄膜的特性。无论是尖端研发还是苛刻的生产应用，这些熔炉都是不可或缺的。
为什么选择 KINTEK 的多区 CVD 炉？
KINTEK 的多区 CVD 管式炉旨在为您的关键工艺提供卓越的性能和适应性。以下是我们如何增强您的工作能力：
- 无与伦比的温度精度： 独立的加热区可创建扩展的恒温区域或精确控制的温度梯度，这对于均匀沉积和特殊材料合成至关重要。
- 先进的过程控制： PID 可编程温度控制确保了出色的精度。再加上远程和集中控制功能，您可以获得更多的灵活性和监控便利性。
- 稳定准确的气体输送： 高精度 MFC（质量流量控制器）质量流量计可确保精确稳定的供气速度，包括用于预混合源气体的选项，这对稳定薄膜质量至关重要。
- 可靠的高真空环境： 带有各种适配端口的坚固不锈钢真空法兰可确保出色的密封性，实现并保持敏感的 CVD 过程所需的高真空度。
- 用户友好型操作和数据分析： 部分型号（如 KT-CTF14 Pro）配有 7 英寸 TFT 触摸屏控制器，可简化程序设置并轻松分析历史数据。
- 适用于各种应用的多功能性： 我们的窑炉不仅适用于 CVD，还适用于扩散、退火、烧结以及真空或受控气氛下的其他热处理。
- 节能设计： 我们的窑炉采用优质陶瓷纤维隔热材料和双层结构，可最大限度地减少热量损失，从而降低外部温度并节约能源。
- 耐用且可定制的材料： 炉管采用耐热钢、高纯度石英玻璃和陶瓷等多种材料，可满足不同的化学环境和温度要求。
工作原理
多加热区 CVD 管式炉利用化学气相沉积 (CVD) 工艺在基底上沉积薄膜。将气态前驱体（通常是金属有机化合物和/或氢化物）引入炉腔。这些前驱体在受控温度下发生化学反应，在基底上形成固态薄膜材料。熔炉的多个加热区可精确控制沉积温度和基底上的温度梯度，从而沉积出具有定制特性（如厚度、成分和结晶度）的高质量薄膜。集成的真空系统可去除杂质并控制沉积压力，从而确保最佳的工艺条件。
应用
我们的多加热区 CVD 管式炉广泛应用于各种先进领域，包括
- 化学气相沉积 (CVD)： 用于电子设备、半导体、太阳能电池、涂层和纳米材料的薄膜生长。
- 扩散： 半导体和金属的精确掺杂。
- 退火： 对材料进行热处理，以增强其结构和物理特性。
- 烧结： 通过控制热量和压力使粉末状材料结合形成固体结构。
- 热处理： 用于材料研究和改性的各种受控加热和冷却过程。
- 元素分析和测定： 制备用于分析的样品。
- 材料加工： 小型钢件的淬火、退火和回火，电子陶瓷和其他新材料的开发。
技术规格
| 炉型 | KT-CTF14-60 |
|---|---|
| 最高温度 | 1400℃ |
| 恒定工作温度 | 1300℃ |
| 炉管材料 | 高纯度 Al2O3 管 |
| 炉管直径 | 60 毫米 |
| 加热区 | 2x450 毫米 |
| 炉膛材料 | 氧化铝多晶纤维 |
| 加热元件 | 碳化硅 |
| 加热速率 | 0-10℃/min |
| 热耦合 | S 型 |
| 温度控制器 | 数字 PID 控制器/触摸屏 PID 控制器 |
| 温度控制精确度 | ±1℃ |
| 气体精确控制装置 | |
| 流量计 | MFC 质量流量计 |
| 气体通道 | 4 个通道 |
| 流量 |
MFC1: 0-5SCCM O2
mfc2: 0-20scmch4 mfc3: 0- 100sccm h2 mfc4: 0-500 sccm n2 |
| 线性度 | ±0.5% F.S. |
| 重复性 | ±0.2% F.S. |
| 管路和阀门 | 不锈钢 |
| 最大工作压力 | 0.45 兆帕 |
| 流量计控制器 | 数字旋钮控制器/触摸屏控制器 |
| 标准真空装置（可选） | |
| 真空泵 | 旋片式真空泵 |
| 泵流量 | 4 升/秒 |
| 真空吸入口 | KF25 |
| 真空规 | 皮拉尼/电阻硅真空计 |
| 额定真空压力 | 10Pa |
| 高真空单元（可选） | |
| 真空泵 | 旋片泵+分子泵 |
| 泵流量 | 4L/S+110L/S |
| 真空吸入口 | KF25 |
| 真空规 | 复合真空计 |
| 额定真空压力 | 6x10-5Pa |
| 以上规格和设置可定制 | |
标准包装
| 编号 | 说明 | 数量 |
|---|---|---|
| 1 | 熔炉 | 1 |
| 2 | 石英管（或按订单要求的其他材料） | 1 |
| 3 | 真空法兰套件 | 2 |
| 4 | 导管隔热块 | 2 |
| 5 | 导管隔热块挂钩 | 1 |
| 6 | 耐热手套 | 1 |
| 7 | 精确气体控制装置（如订购） | 1 |
| 8 | 真空装置（如有订购） | 1 |
| 9 | 操作手册 | 1 |
深度定制，满足您的独特需求
KINTEK 擅长提供深度定制的窑炉解决方案，以精确满足独特的实验和生产要求。除标准配置外，我们还提供一系列可选设置和修改：
- 管内气体检测和监控（如 H2、O2）。
- 独立的炉温监控和记录系统。
- 用于 PC 远程控制和数据输出的 RS 485 通信端口。
- 多种气体进料流速控制选项，包括各种质量流量计和浮子流量计。
- 先进的触摸屏温度控制器，具有用户友好的界面和广泛的编程功能。
- 全面的高真空泵站设置，包括叶片真空泵、分子泵、扩散泵等。
- 定制炉尺寸、加热区配置和材料选择。
告诉我们您所面临的挑战，我们将为您设计解决方案。
与 KINTEK 合作，为您提供高温解决方案
凭借雄厚的研发和内部制造基础，KINTEK 致力于为全球实验室提供先进的高温炉系统，包括马弗炉、管式炉、旋转炉、真空炉和气氛炉，以及专业的 CVD/PECVD/MPCVD 系统。我们致力于深度定制，确保您获得完全符合您特定实验目标的窑炉。
准备好提升您的材料加工和研究能力了吗？请与我们的专家团队讨论您的要求。
FAQ
什么是管式炉及其工作原理？
多区管式炉的主要应用有哪些？
什么是立式管式炉？
什么是真空感应炉？
真空炉的主要应用有哪些？
气氛炉有哪些用途？
管式炉的主要应用有哪些？
多区管式炉有哪些主要特点？
立式管式炉有哪些应用？
真空感应炉的主要应用有哪些？
真空炉有哪些主要特点？
气氛炉有哪些主要特点？
使用管式炉有哪些优势？
多区管式炉如何工作？
立式管式炉有哪些优势？
真空感应炉如何工作？
真空炉如何工作？
气氛炉如何工作？
管式炉有哪些类型？
使用多区管式炉有哪些优势？
立式管式炉如何工作？
使用真空感应炉有哪些优势？
使用真空炉有哪些优势？
使用气氛炉有哪些优势？
管式炉可以达到哪些温度范围？
有哪些类型的多区管式炉？
有哪些类型的立式管式炉？
真空感应炉有哪些类型？
真空炉可处理哪些类型的材料？
气氛炉可使用哪些类型的气体？
管式炉能否在不同气氛下运行？
为什么选择立式管式炉而不是卧式管式炉？
为什么温度控制对真空感应炉非常重要？
热壁真空炉和冷壁真空炉有什么区别？
先进的气氛炉有哪些安全功能？
是什么让 KINTEK 管式炉与众不同？
立式管式炉可以达到哪些温度范围？
真空感应炉可以处理哪些材料？
真空炉能否针对特定应用进行定制？
垂直管式炉是否可以定制？
真空环境如何有利于材料加工？
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