MPCVD
用于拉丝模纳米金刚石涂层的 HFCVD 机器系统设备
货号 : HFCVD-100
价格根据 规格和定制情况变动
- 极限真空度
- 2.0×10-1Pa
- 金刚石涂层厚度
- 10 ~ 15 毫米
- 使用寿命
- 6-10 倍
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视觉概览：用于金刚石涂层的 HFCVD 系统
了解 KINTEK 先进的热丝化学气相沉积 (HFCVD) 系统，该系统专为生产高质量纳米金刚石复合涂层而设计。该系统非常适合要求高硬度、耐磨性和低摩擦的应用，例如提高拉丝模具的性能和使用寿命。
技术规格
| HFCVD 技术成分 | ||
| 技术参数 | 设备组成 | 系统配置 |
| 钟罩直径 500mm，高 550mm，SUS304 不锈钢腔体；不锈钢内壁保温，提升高度 350mm。500mm，高 550mm，SUS304 不锈钢腔体；不锈钢内胆保温，提升高度 350mm； | 一套真空室（钟罩）主体（夹套水冷结构） | 真空室（钟罩）主体；腔体由优质 304 不锈钢制成；立式钟罩：夹套水冷夹套安装在钟罩的整体外围。钟罩内壁用不锈钢皮隔热，钟罩侧面固定。观察窗：水平布置在真空室中部 200mm 观察窗上，水冷却，挡板，侧面和上部配置 45 度斜角，50° 观察窗（观察点与水平观察窗相同，与样品支撑平台相同）；两个观察窗保持现有位置和尺寸。钟罩底部高出工作台平面 20mm，设置冷却；平面上预留孔洞，如大阀门、放气阀、气压测量、旁通阀等、用金属网密封，预留安装电极接口； |
| 设备工作台：长 1550* 宽 900* 高 1100 毫米 | 一套拖动样品台装置（采用双轴驱动） | 样品架装置：不锈钢样品架（焊接水冷）6位装置，可单独调节，仅上下调整，上下调整范围25mm，要求上下时左右晃动小于3%（即左右晃动上升或下降1mm小于0.03mm），样品台上升或下降时不旋转。 |
| 极限真空度：2.0×10-1Pa； | 一套真空系统 | 真空系统：真空系统配置：机械泵+真空阀+物理放气阀+主排气管+旁通；（由真空泵供应商提供），真空阀采用气动阀；真空系统测量：膜压力。 |
| 压力上升率：≤5Pa/h； | 双通道质量流量计供气系统 | 供气系统：质量流量计由乙方配置，双向进气，流量由质量流量计控制，双向汇流后从顶部进入真空室，进气管内径为 50mm |
| 样品台移动：上下移动范围为 ± 25m，上下移动时要求左右晃动比例为 ± 3%； | 一套电极装置（2 个通道） | 电极装置：四个电极孔的长度方向与支撑平台的长度方向平行，长度方向正对直径为 200mm 的主观察窗。 |
| 工作压力：使用膜片式压力表，测量范围为0 ～ 10kPa；工作恒压在 1kPa ～ 5kPa，恒压值变化正负 0.1kPa； | 一套冷却水系统 | 冷却水系统：钟罩、电极、底板均设有循环水冷却管路，并设有水流量不足报警装置 3.7：控制系统。钟罩提升、放气、真空泵、主管路、旁路、报警、流量、气压等开关、仪表、仪器、电源设置在支架侧面，由 14 寸触摸屏控制，设备具有全自动控制程序，无需人工干预，可存储数据和调用数据 |
| 进气口位置：进气口位于钟罩顶部，排气口位置位于样品架正下方； | 控制系统 | |
| 控制系统：PLC 控制器 + 10 英寸触摸屏 | 一套自动压力控制系统（德国原装进口压力控制阀） | |
| 充气系统：双通道质量流量计，流量范围：0-2000sccm 和 0-2000sccm0-2000sccm和0-200sccm；气动阀门 | 电阻真空计 | |
| 3.1.10 真空泵D16C 真空泵 | ||
了解 HFCVD 金刚石沉积
用于制造金刚石薄膜的热丝化学气相沉积（HFCVD）工艺基于以下工作原理：将含碳气氛与过饱和氢气混合、活化（通常是通过热丝），然后通过基底。在精确控制的条件下，包括气氛成分、活化能、基底温度以及基底与活化源之间的距离，金刚石薄膜就会沉积下来。金刚石薄膜的成核和生长一般分为三个阶段：
- 活化和过渡层形成： 含碳气体和氢气在一定温度下分解成碳、氢原子和其他活性自由基。这些自由基与基底结合，首先形成非常薄的碳化物过渡层。
- 金刚石成核： 碳原子在基底上形成的过渡层上沉积金刚石核。
- 薄膜生长： 形成的金刚石晶核在适当的环境下成长为金刚石微晶粒，然后继续成长为内聚金刚石薄膜。
我们的 HFCVD 系统和纳米金刚石涂层的主要优势
纳米金刚石复合涂层拉伸模具以硬质合金（WC-Co）为基材，采用化学气相法（CVD）在模具内孔表面沉积传统金刚石和纳米金刚石复合涂层。这样，经过研磨和抛光涂层后，产品就焕然一新了。纳米金刚石复合涂层不仅具有传统金刚石涂层的强附着力和耐磨性，还具有纳米金刚石涂层固有的表面平整光滑、摩擦系数小、易于研磨和抛光等优点。这项技术解决了涂层附着力方面的技术难题，克服了金刚石涂层表面难以抛光的瓶颈，为 CVD 金刚石薄膜的工业化生产扫清了障碍。
|
技术指标 |
传统拉丝模 |
纳米金刚石涂层拉丝模 |
|
涂层表面晶粒尺寸 |
无 |
20~80nm |
|
涂层金刚石含量 |
无 |
≥99% |
|
金刚石涂层厚度 |
无 |
10 ~ 15 毫米 |
|
表面粗糙度 |
Ra≤0.1mm |
A 级：Ra≤0.1mm B 级Ra≤0.05mm |
|
涂层拉丝模内孔直径范围 |
Ф3 ~ Ф70mm |
Ф3 ~ Ф70mm |
|
使用寿命 |
使用寿命取决于工作条件 |
6-10 倍 |
|
表面摩擦系数 |
0.8 |
0.1 |
KINTEK HFCVD 系统的具体设计优势：
- 精密模具升降平台： 为保证模具升降平台的平行度和直线度，我公司专门制作了模具。双轴升降方式可使两端的升降幅度约为±0.02 毫米（2 线），从而可制造出更小的高精度模具。
- 优化的模具集成： 我们公司对模具上每个部件的位置进行了整合，重点关注模具的工具和工艺。这确保了良好的模具和锁模、稳定可靠的运行、高精度和易用性。
- 先进的压力控制： 其他制造商可能会使用无法线性调节的挡板阀（间隙在打开时会迅速增大），而我们公司则根据稳定的压力控制原理设计了带截止阀的系统。这样就可以线性调节关闭间隙，实现稳定的压力控制。
- 全自动控制系统： 系统根据计算机算法自动控制压力，减少了操作员的随机性，提高了工艺的保密性。这不仅节省了人力，还能确保相同规格的模具质量具有更理想的一致性。
- 稳定的钟罩操作： 为保证升降钟罩的稳定性，我公司采用了自润滑轴承，使旋转更加灵活，不会出现卡死现象。该系统的设计可满足每个客户特定的金刚石涂层工艺要求。
先进材料解决方案的合作伙伴
凭借卓越的研发和内部制造能力，KINTEK 为各种实验室提供先进的高温炉解决方案。我们的产品系列包括马弗炉、管式炉、回转炉、真空炉和气氛炉，以及 CVD/PECVD/MPCVD 系统（如这台 HFCVD 设备），并辅以强大的深度定制能力，以精确满足独特的实验要求。
准备好改进您的金刚石涂层工艺了吗？
进一步了解我们的 HFCVD 系统如何满足您的特定研究或生产需求。我们的专家随时准备讨论您的要求，帮助您找到最佳解决方案。
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