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探索CVD和PVD之间的差异:CVD为复杂形状提供共形涂层,而PVD在较低温度下提供高纯度。
探索如何在PECVD中平衡刻蚀、成核和沉积,从而实现从薄膜到纳米结构的材料形貌定制,以应用于先进领域。
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探索 PECVD 系统规格:射频/低频功率、真空性能、气体控制和热管理,实现卓越的研发和生产薄膜沉积。
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PECVD 的工作温度为 200-400°C,而 LPCVD 的工作温度为 425-900°C,这使得对敏感基板可以进行低温沉积并加快制造速度。
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探索 PECVD 的低温沉积、卓越薄膜质量及其在电子、光学和医疗设备中的多功能性。
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探索 PECVD 的优势:低温处理、卓越的薄膜质量以及针对电子学和材料科学的高沉积速率。
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