管式炉提供多种控制选项，适合精确的温度管理、过程自动化和气体环境调节。这些系统集成了电子控制、软件接口和专门的气体处理，以适应从材料测试到半导体加工等各种工业和研究应用。多区配置和定制功能进一步增强了它们的适应性。
要点说明：
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带过温保护功能的电子控制面板
- 这些面板是大多数管式炉的标准配置，可进行手动温度设置和实时监控。
- 如果超过安全阈值，内置超温控制装置会自动关闭系统，防止设备损坏。
- 与热电偶（如 K 型、S 型）兼容，精度高达 1800°C。
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数据采集和控制软件 (DACS)
- 可编程温度曲线（斜坡/浸泡循环），用于可重复实验。
- 支持通过 PC 或移动设备进行远程操作，是催化剂测试或陶瓷烧结等无人值守过程的理想选择。
- 记录历史数据，以便进行合规性分析，这对航空航天或制药等行业至关重要。
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SIMGAS4 气体管理系统
- 与 气氛甑式炉 用于调节惰性/反应性气体（如 N₂、H₂、Ar）。
- 配有流量控制阀和压力传感器，可实现精确的气氛成分--这在冶金或石墨烯合成中非常关键。
- 包括安全联锁装置，可在断电时停止气体流动。
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多区控制配置
- 分管式设计可实现独立的温度区（如 300 毫米热区），适用于 CVD 涂层等基于梯度的应用。
- 可定制水平、垂直或旋转方向，适合批量或连续加工。
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定制选项
- 试管材料（石英、氧化铝）和直径（50-120 毫米）适合样品尺寸。
- 根据目标温度（1200-1800°C）选择加热元件（Kanthal、MoSi₂）。
- 可选真空室或高压室，用于专门研究。
无论是研究纳米材料的大学实验室，还是生产电池组件的工厂，这些控制系统都能满足对精度、安全性和可扩展性的需求。正确的配置取决于吞吐量、气氛要求和热均匀性公差等因素。
汇总表：
| 控制选项 | 主要功能 | 应用 |
|---|---|---|
| 电子控制面板 | 手动温度设置、过温保护、热电偶兼容性 | 材料测试、半导体加工 |
| 数据采集软件 (DACS) | 可编程配置文件、远程操作、数据记录 | 催化剂测试、陶瓷烧结、航空航天/制药合规性 |
| SIMGAS4 气体管理 | 流量/压力控制、安全联锁、惰性/反应气体支持 | 冶金、石墨烯合成、CVD 涂层 |
| 多区配置 | 独立温区，可定制方向 | 基于梯度的工艺（如 CVD），批量/连续加工 |
| 定制选项 | 管材料、加热元件、真空/高压室 | 专业研究（如纳米材料、电池组件） |
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