多区管式炉是一种先进的热处理系统,专为多个独立控制温度区域的精密加热应用而设计。这些管式炉集高温能力(高达 1760°C)、优异的温度均匀性和可编程控制功能于一身,是研究、半导体制造和先进材料加工不可或缺的设备。其独特的分区结构可在单个炉腔内同时进行不同温度的热处理,无需转移样品,同时提高了工艺一致性。这些系统具有强大的安全功能和灵活的电源配置,可满足对热梯度控制要求极高的各种工业和实验室需求。
要点说明:
-
多区温度控制
- 每个加热区都有独立的主/从控制器
- 在不同温度下同时烧结/加工(例如 300°C/600°C/900°C 加热区)
- 消除单区炉之间的转移误差
- 对半导体掺杂扩散和纳米材料合成至关重要
-
高温性能
- 最高工作温度为 1760°C
- 加热管长度通常为 27 英寸(可定制)
- 碳化硅或钼加热元件可实现高效电阻加热
- 可与 气氛甑式炉 热处理能力
-
精确编程
- 针对复杂热曲线的分步编程
- 区域内温度均匀性为 ±1°C
- 通过独立传感器提供过温保护
- 热电偶断路报警,确保过程安全
-
工业级结构
- 220 伏单相或 415 伏三相电源可选
- 石英/氧化铝工艺管(可选)
- 专为实验室/工厂的连续运行而设计
-
应用广泛
- 材料测试(相变、蠕变行为)
- 半导体晶体生长
- 具有可控梯度的陶瓷烧结
- 需要分阶段加热的纳米材料合成
-
运行优势
- 与单区系统相比,吞吐量提高 30-50
- 通过分区激活降低能耗
- 与惰性/反应性气氛兼容
这些特点使得多区管式炉成为直接影响材料特性(从强化金属合金到优化光伏材料)的热梯度控制的多功能工具。多区管式炉的可编程特性使研究人员能够在保持实验室精度的同时模拟真实世界的热条件。
汇总表:
功能 | 功能描述 |
---|---|
多区温度控制 | 每个区域都有独立的控制器,可在不同温度下同时进行加工。 |
高温性能 | 通过可定制的加热管长度和高效加热元件,最高温度可达 1760°C。 |
精确编程 | 步进编程、±1°C 的均匀性以及过温保护等安全功能。 |
工业级结构 | 设计坚固,具有灵活的动力选择和连续运行能力。 |
应用广泛 | 材料测试、半导体生长、陶瓷烧结和纳米材料合成的理想选择。 |
运行优势 | 吞吐量更快、能耗更低、与惰性/反应性气氛兼容。 |
利用 KINTEK 的多区管式炉提高实验室的热处理能力! 凭借卓越的研发和内部制造能力,KINTEK 可根据您独特的实验需求提供先进的高温解决方案。无论您是从事半导体制造、纳米材料还是陶瓷烧结,我们的窑炉都能为您提供精确、可靠和深度定制的服务。 立即联系我们 讨论我们如何优化您的热工艺!