CVD 管式炉支持哪些类型的气氛控制？探索精密 CVD 解决方案

CVD 管式炉支持多种类型的气氛控制，主要是真空条件和受控惰性气体环境。这些功能可实现对反应环境的精确控制，这对于化学气相沉积（CVD）或化学气相渗透（CVI）等过程至关重要。该炉的设计包括带有 SS KF 法兰的真空管（用于气体吹扫和真空抽吸）以及石英管或氧化铝管，它们决定了工作温度范围（分别高达 1200°C 或 1700°C）。该系统的微处理器 PID 控制可确保稳定的温度调节、快速加热/冷却和节能，因此既适合实验室应用，也适合工业应用。

要点说明：

1. 真空条件

   • 真空炉可在真空条件下运行，这对于需要去除污染物或氧气以防止氧化的工艺来说至关重要。
   • 带有 SS KF 法兰的真空管有助于高效抽气和气体净化。

2. 惰性气体环境

   • 支持使用氩气或氮气等惰性气体创造非反应条件的受控环境。
   • 这对于必须尽量减少大气干扰的 CVD/CVI 实验至关重要。

3. 试管材料的影响

   • 石英管的温度最高可达 1200°C，而氧化铝管的温度最高可达 1700°C。
   • 材料的选择取决于温度需求以及与工艺的化学兼容性。

4. 精密控制系统

   • 微处理器 PID 控制器可确保精确的温度调节和均匀性。
   • 快速加热/冷却速度可提高效率并降低能耗。

5. 操作灵活

   • 适用于实验室和工业环境，可处理定期或连续操作。
   • 在材料合成或提纯等高温过程中性能稳定。

适用于需要强大气氛控制的应用、 气氛甑式炉 CVD 管式炉具有类似的功能，并具有适用于特殊环境的附加功能。CVD 管式炉的适应性使其成为先进材料加工的多功能工具。

总表：

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