三区分体式管式炉提供灵活的电源选择,以适应不同的工业和实验室环境。主要有 220 伏单相交流电和 415 伏三相交流电两种选择,可满足不同的电源要求和设施基础结构。这些窑炉专为高温应用而设计,例如 化学气相沉积反应器 工艺,具有多区温度控制和强大的安全机制等先进功能。
要点说明
1. 电源选项
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220 伏单相交流电:
- 适用于规模较小的操作或电力基础设施有限的设施。
- 适用于中等电力需求的应用,如研究实验室或试生产。
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415 伏三相交流电:
- 适用于需要更高功率输入的工业规模运行。
- 确保高温工艺(高达 1800°C)和多区配置的稳定性能。
2. 特定应用功能
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多区控制:
- 可实现三个区域的独立温度调节,这对半导体掺杂或纳米材料合成等工艺至关重要。
- 主/从控制器选项可优化均匀性和可重复性。
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定制:
- 管径(50-120 毫米)和热区长度(300-900 毫米)可根据具体需求量身定制。
- 根据温度要求和材料兼容性选择加热元件(Kanthal、SiC、MoSi2)。
3. 安全和精确
- 过热保护和热电偶断裂警报确保操作安全。
- 阶跃编程功能可为复杂的工作流程提供精确的热曲线。
4. 工业相关性
- 裂管炉广泛应用于半导体制造、陶瓷和材料科学领域,这些领域对热梯度的控制至关重要。
- 三相电源(415 伏)支持能源密集型应用,如大型 化学气相沉积反应器 系统。
通过选择合适的电源和配置,用户可以优化研究和工业规模热处理的性能。
汇总表:
功能 | 220 伏单相交流电 | 415 伏三相交流电 |
---|---|---|
最适合 | 小型实验室、试生产 | 工业级大功率需求 |
温度范围 | 高达 1800°C | 高达 1800°C |
主要优势 | 更低的基础设施要求 | 稳定的高功率性能 |
典型应用 | 研究、纳米材料 | CVD 反应器、半导体掺杂 |
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