管式炉和箱式炉中的气氛控制对于需要精确环境条件的工艺至关重要，例如防止氧化或控制反应。管式炉通常通过管子进行气体循环，而箱式炉则使用密封室来获得稳定的气氛。两者都提供先进的温度控制系统、热均匀性以及与各种材料和工艺的兼容性。选择范围从基本的惰性气体装置到带有远程监控功能的复杂可编程系统。选择取决于工艺要求、材料敏感性和操作灵活性等因素。
要点说明：
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管式炉气氛控制
- 气体在管内主动循环，使材料处于受控环境中。
- 常见的设置包括惰性气体（如氮气、氩气）或活性气氛（如氢气、成型气体）。
- 系统如 SIMGAS4 管理气体流量和纯度，以获得可重复的结果。
- 水冷端盖可提高单区设计的热均匀性，而多区配置则可实现梯度控制。
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箱式炉气氛控制
- 密封箱将材料与外部空气隔离，非常适合对污染敏感的工艺。
- 气体密封选项可保持惰性或还原条件（如烧结或钎焊）。
- 带有便携式支架的立式设计为需要经常搬迁的分管式型号提供了灵活性。
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温度和气氛集成
- 热电偶、高温计和 PID 控制器可保持 ±1°C 的均匀性，这对依赖于气氛的反应至关重要。
- 排气系统可清除副产品（如粘结剂燃烧产生的烟雾），确保气氛的一致性。
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材料和工艺兼容性
- 支持金属、陶瓷和玻璃的退火（惰性气氛）或渗碳（反应气体）等工艺。
- 最高 1800°C 的运行温度适合在受控气氛下进行高温处理。
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控制和监测选项
- 基本面板具有过温保护功能，适用于简单应用。
- 先进的 DACS 软件可实现可编程斜坡、远程监控和数据记录，以实现可追溯性。
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操作注意事项
- 管式炉适用于连续加工（如 CVD 涂层），而箱式炉则可批量加工较大的负荷。
- 便携式配置兼顾了稳定性和移动性，适用于研发或小规模生产。
这些特点使得这两种类型的炉子在航空航天（部件热处理）或电子（半导体加工）等气氛精度直接影响产品质量的行业中具有广泛的用途。
汇总表：
| 特点 | 管式炉 | 箱式炉 |
|---|---|---|
| 气氛控制 | 主动气体循环 | 密封舱 |
| 常见气体 | 惰性气体（N₂、Ar）或反应性气体（H₂） | 惰性或还原性气氛 |
| 温度均匀性 | ±1°C，带水冷端盖 | 跨室稳定 |
| 最适合 | 连续加工（如 CVD） | 批量处理 |
| 监控 | 用于远程控制的 DACS 软件 | 基本面板或高级选项 |
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