3 区管式炉是一种多功能设备，专为退火和化学气相沉积 (CVD) 等精密热加工应用而设计。它具有三个独立控制的加热区，可实现出色的温度均匀性和梯度控制。该炉可容纳最大 60 毫米的样品，并支持各种压力下的气体输送，包括大气压和亚大气压条件。主要功能包括灵活的气体处理、最小的颗粒生成以及与 Ar、4%H2 in Ar 和 N2 等工艺气体的兼容性。这些特性使其成为需要受控热环境的研究和工业应用的理想选择。
要点说明：
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灵活的热加工能力
- 三区管式炉 3 区管式炉 设计用于温度低于 1000°C 的退火和化学气相沉积 (CVD)。
- 三个独立控制的加热区可实现精确的温度梯度，这对材料的均匀处理至关重要。
- 应用包括真空烧结（提高材料密度）和真空退火（消除应力和均匀微观结构）。
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样品处理和尺寸兼容性
- 可容纳最大 60 毫米（2 英寸）的样品，适用于中小型实验。
- 垂直设计最大程度地减少了颗粒的产生，而自动晶片/舟式传输系统则提高了生产率。
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先进的气体输送系统
- 配备一个歧管，用于在大气压或亚大气压下引入工艺/清洗气体（如氩气、氩气中的 4%H2、N2）。
- 石英管兼容性确保了化学惰性和高温稳定性。
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温度和气氛控制
- 卓越的跨区温度分布，对材料合成的一致结果至关重要。
- 支持真空或受控气氛处理，可进行对氧化敏感的处理。
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主要组件和安全功能
- 加热系统：电阻元件（如 SiC、MoSi2），有效利用能源。
- 冷却：干燥器用于加热后样品的安全转移，防止污染。
- 控制：PID/PLC 系统可自动控制温度曲线和工艺顺序。
这些功能使 3 区管式炉成为专注于先进材料开发、半导体加工和精密热处理的实验室和行业不可或缺的设备。其模块化设计和气体灵活性可满足不断变化的研究需求，同时确保可重复性。
汇总表：
| 功能 | 说明 |
|---|---|
| 加热区 | 三个独立控制的加热区可实现精确的温度梯度。 |
| 样品尺寸 | 可容纳最大 60 毫米（2 英寸）的样品。 |
| 气体输送 | 支持氩气、氩气中的 4%H2、大气压/亚大气压下的 N2。 |
| 温度控制 | 出色的均匀性，可实现一致的材料合成。 |
| 应用 | 退火、CVD、真空烧结和氧化敏感处理。 |
| 安全与自动化 | PID/PLC 系统、干燥器和惰性石英管，确保可靠运行。 |
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