可将气体引入 3 区管式炉 根据具体应用要求,该炉可在大气压或亚大气压下运行。该炉设计用于灵活加工,包括退火和化学气相沉积(CVD),温度可低于 1000°C。安全措施和精确控制功能可确保在这些压力条件下可靠运行。
要点说明:
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引入气体的压力范围
- 气体可在 大气压 (标准状态)或 亚大气压 (真空或减压)。
- 亚大气压条件通常用于 CVD 等工艺,以尽量减少不必要的反应或提高沉积均匀性。
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设计和灵活性
- 三区管式炉 3 区管式炉 管式炉专为退火和 CVD 而设计,三个区域的温度可独立控制,以实现均匀加热。
- 它可容纳最大 60 毫米的样品,包括一个用于控制输送的气体歧管。
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温度和安全注意事项
- 工作温度通常低于 1000°C,但某些型号可能支持更高的温度范围。
- 过温和过压保护等安全功能可确保在不同气体压力下稳定运行。
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特定工艺调整
- 对于化学气相沉积(CVD),可选择亚大气压,以增强气体扩散和反应动力学。
- 退火可使用大气压,以简化操作,具体取决于材料要求。
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与真空系统集成
- 如果需要亚大气压,窑炉可与真空泵系统搭配使用,但这取决于具体型号和配置。
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操作员安全
- 在处理不同压力的气体时,适当的通风和个人防护设备(如耐热手套、安全眼镜)至关重要。
- 应清楚了解紧急停机程序。
这种灵活性使 3 区管式炉 适用于从材料研究到半导体加工的各种应用。调整压力参数是否符合您的特定工艺目标?
汇总表:
功能 | 详细信息 |
---|---|
压力范围 | 大气压或亚大气压(真空/减压) |
主要应用 | 退火、CVD、材料研究、半导体加工 |
温度范围 | 通常低于 1000°C(某些型号支持更高温度) |
安全措施 | 过温/过压保护、紧急停机协议 |
集成选项 | 与真空泵系统兼容,可用于亚大气压过程 |
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