知识 在什么压力下可以将气体引入 3 区管式炉?通过灵活的压力控制优化工艺
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技术团队 · Kintek Furnace

更新于 3 天前

在什么压力下可以将气体引入 3 区管式炉?通过灵活的压力控制优化工艺

可将气体引入 3 区管式炉 根据具体应用要求,该炉可在大气压或亚大气压下运行。该炉设计用于灵活加工,包括退火和化学气相沉积(CVD),温度可低于 1000°C。安全措施和精确控制功能可确保在这些压力条件下可靠运行。

要点说明:

  1. 引入气体的压力范围

    • 气体可在 大气压 (标准状态)或 亚大气压 (真空或减压)。
    • 亚大气压条件通常用于 CVD 等工艺,以尽量减少不必要的反应或提高沉积均匀性。
  2. 设计和灵活性

    • 三区管式炉 3 区管式炉 管式炉专为退火和 CVD 而设计,三个区域的温度可独立控制,以实现均匀加热。
    • 它可容纳最大 60 毫米的样品,包括一个用于控制输送的气体歧管。
  3. 温度和安全注意事项

    • 工作温度通常低于 1000°C,但某些型号可能支持更高的温度范围。
    • 过温和过压保护等安全功能可确保在不同气体压力下稳定运行。
  4. 特定工艺调整

    • 对于化学气相沉积(CVD),可选择亚大气压,以增强气体扩散和反应动力学。
    • 退火可使用大气压,以简化操作,具体取决于材料要求。
  5. 与真空系统集成

    • 如果需要亚大气压,窑炉可与真空泵系统搭配使用,但这取决于具体型号和配置。
  6. 操作员安全

    • 在处理不同压力的气体时,适当的通风和个人防护设备(如耐热手套、安全眼镜)至关重要。
    • 应清楚了解紧急停机程序。

这种灵活性使 3 区管式炉 适用于从材料研究到半导体加工的各种应用。调整压力参数是否符合您的特定工艺目标?

汇总表:

功能 详细信息
压力范围 大气压或亚大气压(真空/减压)
主要应用 退火、CVD、材料研究、半导体加工
温度范围 通常低于 1000°C(某些型号支持更高温度)
安全措施 过温/过压保护、紧急停机协议
集成选项 与真空泵系统兼容,可用于亚大气压过程

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