3 区管式炉专为灵活的退火和化学气相沉积 (CVD) 工艺而设计，可为不同应用提供各种气体。常用气体包括氩气 (Ar)、氮气 (N2) 和氢气混合物（例如，氩气中含有 4% 的 H2），这些气体通过歧管系统引入。这些气体可用于净化、工艺气氛控制和反应环境等目的，具体取决于所需的特定热处理或化学处理。窑炉的设计可确保与这些气体的兼容性，同时保持精确的温度控制和安全性。
要点说明：
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兼容气体:
- 氩气 (Ar):惰性气体，通常用于创造无氧环境，以防止在退火等高温过程中发生氧化。
- 氮气 (N2):另一种惰性气体，用于吹扫或作为 CVD 过程中的载气。
- 氢气混合物（例如，氩气中含有 4% 的 H2）:用于还原气氛或特定化学反应，如 CVD 或渗碳处理。管式炉 3 区管式炉 设计用于安全处理这些气体。
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气体输送系统:
- 窑炉包括一个 歧管 用于控制气体引入，确保精确的流速和分布。这对 CVD 等工艺至关重要，因为气体成分和流量会直接影响沉积质量。
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工艺应用:
- 退火:通常使用惰性气体（Ar、N2）保护样品免受氧化。
- 化学气相沉积（CVD）:可能需要反应气体（如 H2 混合物）或载气（Ar、N2）来促进薄膜生长。
- 渗碳:如有关高温渗碳的参考文献所述，含氢气体可用于表面处理。
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安全性和灵活性:
- 该炉的设计确保了与这些气体的兼容性，同时保证了安全性，特别是考虑到其温度范围（高达 1000°C）。多歧管系统可以方便地在不同气体之间进行切换，从而满足不同的实验需求。
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排气注意事项:
- 虽然不直接涉及气体引入，但熔炉的废气处理方法（如燃烧、吸附）可确保安全处理副产品，特别是在使用 H2 等活性气体时。
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比较优势:
- 与真空炉在无污染环境中的优势不同，3 区管式炉可提供 大气控制 气体，使其成为需要特定气相反应的工艺的理想选择。
通过了解这些要点，采购人员可以选择合适的气体和配置，以满足其特定的热加工或化学加工需求。您是否考虑过气体选择会如何影响工艺结果？
汇总表：
| 气体类型 | 主要用途 | 常见应用 |
|---|---|---|
| 氩气（Ar） | 惰性气氛，防止氧化 | 退火、CVD 载气 |
| 氮气 (N2) | 吹扫、惰性载气 | CVD、样品保护 |
| 氢混合物 | 还原气氛、反应 | 渗碳、CVD 工艺 |
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