真空炉系统配备了先进的控制功能，以确保精确的温度调节、安全性和运行效率。这些功能包括通过 PLC 实现可编程自动化、通过触摸面板进行实时监控，以及过温控制和紧急停止等保障措施。主要功能包括真空管理、气体回填和数据记录，而可选升级功能则提高了特殊应用的灵活性。该系统的设计将均匀性、可重复性和用户友好界面放在首位，因此适用于冶金、陶瓷和其他工业领域的高温过程。
要点说明：
-
可编程自动化与接口
- 基于 PLC 的控制:可定制斜坡、浸泡和真空设定点，以实现量身定制的热循环。
- 彩色触摸面板:通过直观的导航功能简化操作，可设置气体回填或泵下顺序等参数。
- 自动高架功能:无需人工干预即可执行常规任务（如排气），减少操作员的工作量。
-
真空和气氛管理
- 数字真空显示屏:提供实时压力监测，确保工艺准确性。
- 气体回填能力:支持引入惰性气体（如氩气），以防止在加热/冷却过程中发生氧化。
- 多站选项:某些系统允许同时使用真空和保护气氛，以适应复杂的工作流程。
-
温度控制和均匀性
- 精确调节:采用可控硅电源和 PID 循环技术，提供 ±1°C 的可控性。
- 热电偶:标准的负荷中心传感器可确保读数的一致性；可选的多测量热电偶可加强监测。
- 温度范围:特定系列的能力（如 1000°C-2000°C）可满足不同的材料要求。
-
安全与冗余
- 过温保护:当超过阈值时，通过停止加热防止损坏。
- 紧急停止:可在紧急情况下立即关机。
- 不间断电源 (UPS):可选的备份功能可在系统中断时保持功能正常。
-
数据和流程跟踪
- 数据记录:记录周期参数，以确保质量和合规性。
- 条形图记录仪:多通道选项可直观显示温度/压力随时间变化的趋势。
-
设计与定制
- 加热元件:石墨或钨等材料可满足不同的温度和材料需求。
- 绝缘:不锈钢容器中的钼提高了热效率。
- 冷却系统:强烈冷却的炉体（加热区除外）确保了结构的稳定性，具体表现在 真空清洗炉 设计。
这些特点使真空炉既能满足严格的工业标准，又能适应专门的研究或生产需求。
汇总表：
| 功能 | 描述 |
|---|---|
| 可编程自动化 | 基于 PLC 的控制，可定制热循环和直观的触摸面板操作。 |
| 真空和大气 | 实时压力监控、气体回充和多工位选项，灵活性强。 |
| 温度控制 | ±1°C 精确度，采用 PID 循环、热电偶和系列专用量程（1000°C-2000°C）。 |
| 安全与冗余 | 过温保护、紧急停止和可选 UPS，确保不间断运行。 |
| 数据跟踪 | 记录循环参数并支持多通道条形图记录仪进行分析。 |
| 设计和定制 | 根据需要定制加热元件（石墨/钨）、隔热材料和冷却系统。 |
使用精密控制的真空炉升级您的实验室！ 凭借卓越的研发和内部制造能力，KINTEK 为各种实验室提供先进的高温炉解决方案。我们的产品线包括马弗炉、管式炉、回转炉、真空炉和气氛炉以及 CVD/PECVD 系统，并辅以强大的深度定制能力，以精确满足独特的实验要求。 立即联系我们 讨论我们的真空炉系统如何改进您的工作流程！
