CVD & PECVD Furnace
倾斜旋转式等离子体增强化学沉积 PECVD 管式炉设备
货号 : KT-PED
价格根据 规格和定制情况变动
- 加热温度
- ≤800℃
- 真空度
- ≤5×10-5Pa
- 输出功率
- 500W-1000W
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等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 镀膜机
KINTEK 先进的 PECVD 系统：精密镀膜，满足您的需求
凭借卓越的研发和内部制造能力，KINTEK 为各种实验室和工业应用提供最先进的等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 系统。PECVD 是一种复杂的真空薄膜沉积技术，利用等离子体激活前驱气体。与传统的化学气相沉积 (CVD) 相比，PECVD 能够在更低的温度下生成高质量、均匀的涂层，从而扩大了热敏基材（如塑料）和各种涂层材料（包括电介质、半导体和绝缘体）的应用范围。
我们的 PECVD 设备是 KINTEK 先进高温炉解决方案综合套件中的重要产品，该解决方案还包括马弗炉、管式炉、旋转炉、真空炉和气氛炉以及其他 CVD/MPCVD 系统。我们引以为豪的是强大的深度定制能力，可确保您的 PECVD 系统经过精确设计，满足您独特的实验和生产要求。
主要特点
KINTEK 的等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 镀膜机具有一系列专为卓越性能和多功能性而设计的功能：
- 低温沉积： 可在易碎或低熔点基材上形成高质量薄膜，而不会产生热损伤，极大地拓宽了材料兼容性。
- 高沉积速率： 实现快速成膜，最大限度地提高产量，缩短加工时间，提高整体生产率。
- 均匀且抗裂的薄膜： 在整个基底上形成厚度和性能极其一致的涂层，最大限度地减少开裂等缺陷，从而获得可靠耐用的效果。
- 出色的基底附着力： 确保沉积薄膜与基底材料之间的牢固粘合，从而实现持久的性能并防止分层。
- 多功能涂层能力： 支持多种材料的沉积，如 SiO2、SiNx、SiOxNy 等，满足不同的应用需求。
- 复杂几何形状上的共形涂层： 能够对形状和形貌复杂的基底进行均匀镀膜，确保全面覆盖和最佳性能。
- 用户友好型设计： 维护要求低，安装简单，可最大限度地减少停机时间，简化与工作流程的整合。
技术规格
| 样品支架 | 尺寸 | 1-6 英寸 |
| 旋转速度 | 0-20rpm 可调 | |
| 加热温度 | ≤800℃ | |
| 控制精度 | ±0.5℃ 岛电 PID 控制器 | |
| 气体吹扫 | 流量计 | 质量流量计控制器 (MFC) |
| 通道数 | 4 个通道 | |
| 冷却方式 | 循环水冷却 | |
| 真空室 | 真空室尺寸 | Φ500mm X 550mm |
| 观察孔 | 带挡板的全视角观察孔 | |
| 腔体材料 | 316 不锈钢 | |
| 门类型 | 前开式门 | |
| 盖子材料 | 304 不锈钢 | |
| 真空泵接口 | CF200 法兰 | |
| 气体入口 | φ6 VCR 连接器 | |
| 等离子电源 | 电源 | 直流电源或射频电源 |
| 耦合模式 | 电感耦合或板电容 | |
| 输出功率 | 500W-1000W | |
| 偏置功率 | 500v | |
| 真空泵 | 前级泵 | 15L/S 片式真空泵 |
| 涡轮泵端口 | cf150/cf200 620升/秒-1600升/秒 | |
| 溢流口 | KF25 | |
| 泵速 | 叶片泵：15升/秒，涡轮泵：1200升/秒或1600升/秒 | |
| 真空度 | ≤5×10-5Pa | |
| 真空传感器 | 电离/电阻真空计/薄膜真空计 | |
| 系统 | 电源 | 交流 220V /380 50Hz |
| 额定功率 | 5kW | |
| 外形尺寸 | 900 毫米 X 820 毫米 X 870 毫米 | |
| 重量 | 200 千克 |
应用领域
KINTEK 的等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 镀膜机为众多行业和尖端应用提供了多功能解决方案：
- LED 照明： 沉积对高效耐用的发光二极管 (LED) 至关重要的高质量电介质和半导体薄膜。
- 功率半导体： 形成功率半导体器件中的绝缘层、栅极氧化物和其他关键薄膜元件。
- MEMS（微机电系统）： 制造用于传感器、致动器和其他微型设备的精密薄膜。
- 光学镀膜： 沉积抗反射涂层、光学过滤器、保护层和其他功能性光学元件。
- 薄膜太阳能电池： 生产用于光伏设备的非晶硅和微晶硅薄膜以及其他半导体材料。
- 表面改性： 增强材料表面性能，包括提高耐腐蚀性、耐磨性、硬度和生物相容性。
- 纳米技术： 合成先进的纳米材料，如纳米颗粒、纳米线和超薄薄膜，用于新型应用。
为什么要与 KINTEK 合作开发 PECVD 技术？
选择 KINTEK 满足您的 PECVD 需求意味着投资于质量、可靠性和量身定制的解决方案：
- 深度定制： 我们擅长根据您的具体规格配置 PECVD 系统，确保为您的独特应用和研究目标提供最佳性能。
- 先进的研发和制造： 我们的内部专业技术推动创新，使我们能够提供最先进的 PECVD 技术。
- 高品质结构： 我们的系统采用不锈钢等优质材料，设计坚固，具有稳定性、耐用性和更长的工作寿命。
- 性能可靠： 我们的 PECVD 设备专为实现稳定的结果而设计，可生产出高质量、均匀且附着力极佳的薄膜。
- 全面支持： 从安装简单到维护要求低，我们确保我们的系统方便用户使用，并提供及时的客户服务。
- 多功能性： 我们的设备可沉积多种材料，适用于各种研究和工业流程。
工作原理
等离子体增强化学气相沉积（PECVD）是一种在薄膜沉积过程中利用等离子体（一种电离气体）刺激和增强化学反应的工艺。传统的化学气相沉积仅仅依靠高温来驱动反应，而 PECVD 则不同，它采用了高能等离子体。这种等离子体为前驱气体提供能量，从而在基底温度明显较低的情况下形成活性物质。然后，这些活性物质吸附在基底表面并发生化学反应，形成固体薄膜。这种方法可以沉积出各种高质量的薄膜，如 SiO2、SiNx 和 SiOxNy，尤其适用于制造太阳能电池中使用的非晶硅或微晶硅薄膜。较低的加工温度可最大限度地减少基底上的热应力、减少针孔并防止开裂，从而使 PECVD 成为更广泛材料和应用的理想选择。
利用 KINTEK 定制您的 PECVD 解决方案
准备好提升您的薄膜沉积能力了吗？KINTEK 的专家随时准备与您讨论具体的项目需求和挑战。我们可以帮助您配置完全符合您的实验或生产要求的等离子体增强化学气相沉积系统。从我们深厚的定制专业知识和先进技术中获益，实现卓越成果。
FAQ
什么是管式炉及其工作原理？
旋转管式炉的主要应用有哪些？
旋转炉的原理是什么？
旋转炉有哪些用途？
多区管式炉的主要应用有哪些？
分管炉的常见应用有哪些？
什么是立式管式炉？
管式炉的主要应用有哪些？
旋转管式炉有哪些主要特点？
使用旋转炉有哪些优势？
旋转炉有哪些主要类型？
多区管式炉有哪些主要特点？
分管炉有哪些主要特点？
立式管式炉有哪些应用？
使用管式炉有哪些优势？
转管炉如何工作？
旋转炉有哪些主要特点？
旋转炉如何工作？
多区管式炉如何工作？
分管炉如何工作？
立式管式炉有哪些优势？
管式炉有哪些类型？
使用旋转管式炉有哪些优势？
回转炉的常见应用有哪些？
使用多区管式炉有哪些优势？
使用分体式管式炉有哪些优势？
立式管式炉如何工作？
管式炉可以达到哪些温度范围？
旋转管式炉可以达到什么温度？
回转炉如何处理不同的材料？
旋转炉具有哪些安全功能？
有哪些类型的多区管式炉？
分管炉可以达到什么温度？
有哪些类型的立式管式炉？
管式炉能否在不同气氛下运行？
旋转管式炉可处理哪些类型的材料？
旋转炉能否针对特定应用进行定制？
为什么分体式设计有利于管式炉？
为什么选择立式管式炉而不是卧式管式炉？
是什么让 KINTEK 管式炉与众不同？
立式管式炉可以达到哪些温度范围？
垂直管式炉是否可以定制？
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