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了解使用CVD系统合成的垂直和横向异质结构，包括用于电子和量子器件的GaSe/MoSe₂和石墨烯/h-BN等示例。
探索PECVD薄膜在微电子、MEMS和涂层中的应用，以提高先进制造中的绝缘、保护和光学性能。
探索MPCVD金刚石沉积设备的6kW微波等离子体、真空系统和PLC自动化，以实现可重复、高纯度的单晶金刚石合成。
了解气体混合物、压力、微波功率和衬底温度如何控制MPCVD金刚石的质量。优化您的工艺以提高纯度和生长速率。
探索MPCVD的趋势，例如人工智能集成、大尺寸单晶金刚石合成以及用于可扩展、可持续材料生产的节能系统。
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探索管式炉在退火、烧结、CVD等领域的应用，适用于需要精确气氛控制的工业和中小批量生产。
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了解管材如何影响热处理、烧结和 CVD 应用中的炉子效率、耐用性和工艺结果。
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了解气态催化剂辅助CVD如何实现在绝缘基底上直接生长高质量石墨烯，消除转移损伤，从而获得卓越的电子性能。
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了解CVD系统的优势，从原子级精度和高纯度到对复杂3D和多孔结构的卓越覆盖。
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了解 MPCVD 技术如何实现用于先进电子和工业应用的高质量合成金刚石薄膜的无污染生长。
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LPCVD温度范围从425°C到800°C以上，由薄膜材料决定。了解如何为您的工艺选择合适的温度。
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了解用于半导体、光学等领域的高纯度、均匀涂层的分步 CVD 过程。优化您实验室的薄膜应用。
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了解如何在三温区管式炉中使用常压或亚大气压，以确保热处理过程的纯度、效率和安全性。
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