知识 箱式炉的温度范围有多大?了解精密加热的高温解决方案
作者头像

技术团队 · Kintek Furnace

更新于 2 天前

箱式炉的温度范围有多大?了解精密加热的高温解决方案

箱式炉是专为高温应用而设计的多功能加热系统,最高温度可达 1800°C。它们具有精确的温度控制、均匀的加热和坚固的结构,具有长期的可靠性。这些窑炉支持从退火到烧结等多种工业和实验室工艺,并具有先进的控制系统,可实现最佳性能。其节能设计和快速加热能力使其成为要求苛刻的热处理工艺的理想选择。

要点说明:

  1. 温度范围

    • 箱式炉的温度范围为 1100°C 至 1800°C 某些型号超过 1700°C。
    • 上限取决于炉子的设计、加热元件和隔热材料。
  2. 先进的温度控制

    • 配备 完全可编程控制器 包括用于逐步加热的斜坡到设定点功能。
    • 自整定 PID 仪表 确保最佳的温度稳定性和工艺可重复性。
  3. 均匀加热和工艺多样性

    • 设计用于 高度均匀的温度分布 在以下工艺中,高度均匀的温度分布对获得一致的结果至关重要:
      • 退火
      • 钎焊
      • 烧结
      • 热处理
    • 支持 高密度负载配置 而不会降低性能。
  4. 节能设计

    • 双层结构 先进的隔热材料最大限度地减少了热量损失。
    • 模块化板式加热元件 延长使用寿命,避免瓦特负荷限制。
  5. 跨行业应用

    • 用于 陶瓷、冶金和材料测试 等任务:
      • 煅烧
      • 脱胶(如金属注射成型)
      • 热循环
  6. 安全性和耐久性

    • 降低外部表面温度 提高操作员的安全性。
    • 坚固的结构 确保高温环境下的可靠性。

箱式炉是专为满足工业和研究环境的严格要求而设计的,集精度、效率和适应性于一身。箱式炉能够在极端温度下处理各种工艺,是航空航天、汽车和先进材料开发等领域不可或缺的设备。

汇总表:

功能 详细信息
温度范围 1100°C 至 1800°C(取决于型号)
控制系统 可编程,具有斜坡到设定点和自整定 PID,以确保稳定性
加热均匀性 确保退火、钎焊和烧结效果一致
能源效率 双层结构和先进的隔热材料可最大限度地减少热量损失
应用 陶瓷、冶金、排胶、热循环
安全性和耐用性 外部表面温度低;结构坚固,适用于恶劣环境

使用 KINTEK 先进的箱式炉提升您的实验室能力!

凭借卓越的研发和内部制造能力,KINTEK 可根据您的需求提供高温炉解决方案。我们精密设计的箱式炉具有无与伦比的温度控制、均匀加热和能源效率,非常适合烧结、退火和材料测试等要求苛刻的应用。

现在就联系我们 讨论定制解决方案或了解我们的产品系列,包括真空热处理炉和专用加热元件。让我们一起优化您的热处理工艺!

您可能正在寻找的产品:

真空系统的高温观察窗
用于关键应用的精密真空馈入件
高能效真空热处理炉
用于坚固系统的高真空配件
耐用的 MoSi2 加热元件

相关产品

带高硼硅玻璃视镜的超高真空 CF 观察窗法兰

带高硼硅玻璃视镜的超高真空 CF 观察窗法兰

CF 超高真空观察窗法兰采用高硼硅玻璃,适用于精确的超高真空应用。耐用、清晰、可定制。

2200 ℃ 钨真空热处理和烧结炉

2200 ℃ 钨真空热处理和烧结炉

用于高温材料加工的 2200°C 钨真空炉。精确的控制、卓越的真空度、可定制的解决方案。是研究和工业应用的理想之选。

用于高精度应用的超真空电极馈入连接器法兰电源线

用于高精度应用的超真空电极馈入连接器法兰电源线

超真空电极馈入件,用于可靠的 UHV 连接。高密封性、可定制的法兰选项,是半导体和太空应用的理想选择。

真空热压炉机 加热真空压管炉

真空热压炉机 加热真空压管炉

了解 KINTEK 先进的真空管热压炉,用于精确的高温烧结、热压和材料粘合。实验室定制解决方案。

定制多功能 CVD 管式炉 化学气相沉积 CVD 设备机

定制多功能 CVD 管式炉 化学气相沉积 CVD 设备机

KINTEK 的 CVD 管式炉可提供高达 1600°C 的精确温度控制,是薄膜沉积的理想之选。可根据研究和工业需求进行定制。

真空热压炉加热真空压力机

真空热压炉加热真空压力机

KINTEK 真空热压炉:精密加热和压制,可获得极佳的材料密度。可定制温度高达 2800°C,是金属、陶瓷和复合材料的理想之选。立即探索高级功能!

用于层压和加热的真空热压炉设备

用于层压和加热的真空热压炉设备

KINTEK 真空层压机:用于晶片、薄膜和 LCP 应用的精密粘合。最高温度 500°C,压力 20 吨,通过 CE 认证。可提供定制解决方案。

实验室用 1800℃ 高温马弗炉炉

实验室用 1800℃ 高温马弗炉炉

KINTEK 马弗炉:用于实验室的 1800°C 精确加热。节能、可定制、带 PID 控制。是烧结、退火和研究的理想之选。

1700℃ 实验室用高温马弗炉

1700℃ 实验室用高温马弗炉

KT-17M 马弗炉:高精度 1700°C 实验室炉,具有 PID 控制、节能和可定制的尺寸,适用于工业和研究应用。

真空密封连续工作旋转管式炉 旋转管式炉

真空密封连续工作旋转管式炉 旋转管式炉

用于连续真空处理的精密旋转管式炉。是煅烧、烧结和热处理的理想选择。最高温度可达 1600℃。

高压实验室真空管式炉 石英管式炉

高压实验室真空管式炉 石英管式炉

KINTEK 高压管式炉:精确加热至 1100°C,压力控制为 15Mpa。是烧结、晶体生长和实验室研究的理想之选。可提供定制解决方案。

用于实验室金刚石生长的圆柱形谐振器 MPCVD 设备系统

用于实验室金刚石生长的圆柱形谐振器 MPCVD 设备系统

KINTEK MPCVD 系统:精确生长高质量金刚石薄膜。可靠、节能、适合初学者。提供专家支持。

9MPa 空气压力真空热处理和烧结炉

9MPa 空气压力真空热处理和烧结炉

利用 KINTEK 先进的气压烧结炉实现卓越的陶瓷致密化。高压可达 9MPa,2200℃ 精确控制。

钼真空热处理炉

钼真空热处理炉

用于 1400°C 精确热处理的高性能钼真空炉。是烧结、钎焊和晶体生长的理想选择。耐用、高效、可定制。

实验室真空倾斜旋转管式炉 旋转管式炉

实验室真空倾斜旋转管式炉 旋转管式炉

KINTEK 实验室旋转炉:用于煅烧、干燥和烧结的精密加热装置。可定制的真空和可控气氛解决方案。立即提升研究水平!

用于真空烧结的带压真空热处理烧结炉

用于真空烧结的带压真空热处理烧结炉

KINTEK 的真空压力烧结炉为陶瓷、金属和复合材料提供 2100℃的精度。可定制、高性能、无污染。立即获取报价!

600T 真空感应热压机真空热处理和烧结炉

600T 真空感应热压机真空热处理和烧结炉

用于精确烧结的 600T 真空感应热压炉。先进的 600T 压力、2200°C 加热、真空/气氛控制。是研究和生产的理想选择。

牙科瓷氧化锆烧结陶瓷真空压制炉

牙科瓷氧化锆烧结陶瓷真空压制炉

实验室用精密真空压力炉:精度 ±1°C,最高温度 1200°C,可定制解决方案。立即提高研究效率!

真空热处理烧结和钎焊炉

真空热处理烧结和钎焊炉

KINTEK 真空钎焊炉通过出色的温度控制实现精密、清洁的接头。可为各种金属定制,是航空航天、医疗和热应用的理想之选。获取报价!

火花等离子烧结 SPS 炉

火花等离子烧结 SPS 炉

了解 KINTEK 先进的火花等离子烧结炉 (SPS),实现快速、精确的材料加工。可定制的研究和生产解决方案。


留下您的留言