知识 MoSi2 加热元件的密度是多少?极热环境下的高密度性能
作者头像

技术团队 · Kintek Furnace

更新于 1 天前

MoSi2 加热元件的密度是多少?极热环境下的高密度性能

MoSi2(二硅化钼)加热元件的密度为 6.31 g/cm³,与其他材料相比相对较高。这种高密度有助于其在高温应用(如熔炉和工业加热系统)中的耐用性和性能。MoSi2 元件以其出色的导热性和导电性而著称,使其能够在富氧环境中连续高效地工作。它们的脆性要求小心处理,但其高密度和其他特性使其成为要求苛刻的加热应用的首选。

要点说明:

  1. MoSi2 加热元件的密度

    • 密度为 6.31 克/立方厘米 这是影响其结构完整性和热性能的关键因素。
    • 高密度增强了耐久性和抗热应力能力,使其适合在极端条件下长期使用。
  2. 材料特性和性能

    • MoSi2 是一种陶瓷基 高温加热元件 能够在 1600°C 至 1700°C .
    • 高密度有助于 出色的导电性 , 低功耗 高加热率 .
    • 这种材料具有 抗氧化和自动修复性能 使其成为富氧环境的理想选择。
  3. 处理和操作注意事项

    • 由于其 脆性 因此,MoSi2 元素需要小心处理,以避免断裂。
    • 建议 最大加热/冷却速率 每分钟 10°C 以防止热冲击。
    • 定期维护(每 每 3 个月 建议检查并拧紧电气连接。
  4. 优缺点

    • 优点
      • 高温稳定性
      • 节能运行
      • 可定制形状和尺寸
    • 缺点
      • 与替代品相比成本较高
      • 需要专门的电源控制设备(变压器,因为电压低/启动电流大)
  5. 应用和定制

    • 用于工业炉、实验室设备和高温工艺。
    • 可提供标准和定制尺寸,包括加热区直径 ( 3 毫米-12 毫米 )和长度( 80 毫米-1500 毫米 ).

MoSi2 加热元件是一种适用于极端环境的坚固解决方案,可在高性能与小心处理要求之间取得平衡。其密度和材料特性使其成为要求精度和耐用性的行业的可靠选择。

汇总表:

属性 值/描述
密度 6.31 克/立方厘米
工作温度 1600°C-1700°C
主要优点 高导热性/导电性、抗氧化性
处理要求 脆;最大加热/冷却速度:10°C/min
维护 每 3 个月检查一次连接

使用 KINTEK 先进的 MoSi2 加热元件升级您的高温工艺。利用我们卓越的研发和内部制造能力,我们可为实验室和行业提供符合您需求的耐用、高性能加热解决方案。无论您需要的是标准配置还是定制配置,我们的专业知识都能确保您的应用获得最佳性能。 现在就联系我们 讨论我们的 MoSi2 元件如何提高您的运营效率!

您可能正在寻找的产品:

探索用于极端温度的耐用 MoSi2 加热元件

探索用于熔炉监控的高真空观察窗

使用精密球截止阀升级真空系统

为电炉寻找坚固耐用的碳化硅加热元件

使用蓝宝石玻璃观察窗提高能见度

相关产品

用于真空系统的 304 316 不锈钢高真空球截止阀

用于真空系统的 304 316 不锈钢高真空球截止阀

KINTEK 的 304/316 不锈钢真空球阀和截止阀可确保工业和科学应用中的高性能密封。探索耐用、耐腐蚀的解决方案。

用于高真空系统的不锈钢 KF ISO 真空法兰盲板

用于高真空系统的不锈钢 KF ISO 真空法兰盲板

用于高真空系统的优质 KF/ISO 不锈钢真空盲板。耐用的 304/316 SS、氟橡胶/EPDM 密封件。KF 和 ISO 连接。立即获取专家建议!

带高硼硅玻璃视镜的超高真空 CF 观察窗法兰

带高硼硅玻璃视镜的超高真空 CF 观察窗法兰

CF 超高真空观察窗法兰采用高硼硅玻璃,适用于精确的超高真空应用。耐用、清晰、可定制。

用于层压和加热的真空热压炉设备

用于层压和加热的真空热压炉设备

KINTEK 真空层压机:用于晶片、薄膜和 LCP 应用的精密粘合。最高温度 500°C,压力 20 吨,通过 CE 认证。可提供定制解决方案。

电炉用二硅化钼 MoSi2 热加热元件

电炉用二硅化钼 MoSi2 热加热元件

用于实验室的高性能 MoSi2 加热元件,温度可达 1800°C,具有出色的抗氧化性。可定制、耐用、可靠,适合高温应用。

高性能真空波纹管,实现系统的高效连接和稳定真空

高性能真空波纹管,实现系统的高效连接和稳定真空

KF 超高真空观察窗采用高硼硅玻璃,可在要求苛刻的 10^-9 托环境中清晰观察。耐用的 304 不锈钢法兰。

2200 ℃ 石墨真空热处理炉

2200 ℃ 石墨真空热处理炉

2200℃ 高温烧结石墨真空炉。精确的 PID 控制,6*10³Pa 真空,耐用的石墨加热装置。是研究和生产的理想之选。

真空热压炉加热真空压力机

真空热压炉加热真空压力机

KINTEK 真空热压炉:精密加热和压制,可获得极佳的材料密度。可定制温度高达 2800°C,是金属、陶瓷和复合材料的理想之选。立即探索高级功能!

超高真空 CF 法兰 不锈钢蓝宝石玻璃观察视窗

超高真空 CF 法兰 不锈钢蓝宝石玻璃观察视窗

用于超高真空系统的 CF 蓝宝石观察窗。耐用、清晰、精确,适用于半导体和航空航天应用。立即查看规格!

2200 ℃ 钨真空热处理和烧结炉

2200 ℃ 钨真空热处理和烧结炉

用于高温材料加工的 2200°C 钨真空炉。精确的控制、卓越的真空度、可定制的解决方案。是研究和工业应用的理想之选。

带真空站 CVD 设备的分室式 CVD 管式炉

带真空站 CVD 设备的分室式 CVD 管式炉

带真空站的分室 CVD 管式炉 - 用于先进材料研究的高精度 1200°C 实验室炉。可提供定制解决方案。

电炉用碳化硅 SiC 热加热元件

电炉用碳化硅 SiC 热加热元件

用于实验室的高性能碳化硅加热元件,具有 600-1600°C 的精度、能效和长使用寿命。可提供定制解决方案。

1400℃ 受控惰性氮气氛炉

1400℃ 受控惰性氮气氛炉

KT-14A 可控气氛炉,用于实验室和工业。最高温度 1400°C,真空密封,惰性气体控制。可提供定制解决方案。

可控惰性氮氢气氛炉

可控惰性氮氢气氛炉

了解 KINTEK 的氢气气氛炉,在受控环境中进行精确烧结和退火。温度高达 1600°C,具有安全功能,可定制。

1700℃ 受控惰性氮气氛炉

1700℃ 受控惰性氮气氛炉

KT-17A 可控气氛炉:通过真空和气体控制实现 1700°C 精确加热。是烧结、研究和材料加工的理想之选。立即浏览!

1700℃ 实验室用高温马弗炉

1700℃ 实验室用高温马弗炉

KT-17M 马弗炉:高精度 1700°C 实验室炉,具有 PID 控制、节能和可定制的尺寸,适用于工业和研究应用。

1200℃ 受控惰性氮气氛炉

1200℃ 受控惰性氮气氛炉

KINTEK 1200℃ 可控气氛炉:通过气体控制进行精确加热,适用于实验室。烧结、退火和材料研究的理想之选。可定制尺寸。

网带式可控气氛炉 惰性氮气氛炉

网带式可控气氛炉 惰性氮气氛炉

KINTEK 网带炉:用于烧结、淬火和热处理的高性能可控气氛炉。可定制、节能、精确控温。立即获取报价!

实验室用 1800℃ 高温马弗炉炉

实验室用 1800℃ 高温马弗炉炉

KINTEK 马弗炉:用于实验室的 1800°C 精确加热。节能、可定制、带 PID 控制。是烧结、退火和研究的理想之选。

用于活性炭再生的电回转窑小型回转炉

用于活性炭再生的电回转窑小型回转炉

KINTEK 的电动活性炭再生炉:用于可持续碳回收的高效自动回转窑。废物最小化,节约最大化。获取报价!


留下您的留言