知识 单区卧式管式炉的尺寸和温控能力如何?探索您实验室的关键规格
作者头像

技术团队 · Kintek Furnace

更新于 3 天前

单区卧式管式炉的尺寸和温控能力如何?探索您实验室的关键规格


对于单区卧式管式炉,主要型号提供从标准到高温处理能力范围,具有不同的尺寸。H14HT 的最高工作温度为 1400°C,直径为 2.5 英寸,长度为 12 英寸。对于更高温度,H18-40HT 的工作温度可达 1760°C(最高 1800°C),尺寸相同,而 3H18-40HT 则提供了相似的高温性能,但长度更长(27 英寸),可选配 2.5 英寸或 4 英寸的直径。

选择单区卧式管式炉不仅仅是考虑其最高温度。这是一个关键决定,需要根据您所需的均匀加热区长度和样品的物理尺寸来决定,并需要平衡单区设计的固有简洁性。

了解核心应用

卧式管式炉是一种用于热处理的基础工具,旨在在陶瓷管或石英管内的受控气氛中加热材料。它的主要价值在于其能够创建稳定且均匀的温度环境。

卧式结构的目的

卧式设计便于样品的装载和卸载。它在退火、煅烧和合成等过程中特别有效,因为需要在材料长度上均匀施加一致的温度。

实现均匀加热区

炉管的“加热长度”与“均匀加热区”并不相同。一个加热元件环绕管子,但热量会自然从两端散失。均匀区是管子中心温度最稳定一致的部分。

基本操作特性

除了加热,这些炉子还由其控制和安全系统定义。精确的温度控制由热电偶和 PID 控制器管理,而超温保护和安全联锁装置确保操作安全,尤其是在无人值守运行时。

单区型号规格

单区型号由一个加热元件和一个控制器定义,使其非常适合建立单一、稳定的处理温度。

标准高温型号 (1400°C)

  • 型号: H14HT
  • 最高温度: 1400°C (2552°F)
  • 管尺寸: 直径 2.5 英寸 x 长度 12 英寸。
  • 最适用于: 1400°C 以下的一般实验室工作、退火和合成。

超高温型号 (1800°C)

  • 型号: H18-40HT
  • 最高温度: 1760°C 连续,最高 1800°C (3272°F)。
  • 管尺寸: 直径 2.5 英寸 x 长度 12 英寸。
  • 最适用于: 先进陶瓷、高温合金和特种材料的处理。

加长型高温型号

  • 型号: 3H18-40HT
  • 最高温度: 1760°C 连续。
  • 管尺寸: 直径 2.5 英寸或 4 英寸 x 长度 27 英寸。
  • 最适用于: 处理更大或更多的样品,或当工艺需要更长的均匀热区时。

了解权衡:单区与多区

选择单区炉是一个深思熟虑的工程决定。了解其局限性是确保它满足您工艺要求 Thus 的关键。

简洁性的优势

单区炉结构简单、可靠且具有成本效益。对于只需要一个稳定温度的广泛应用来说,它是最佳解决方案。操作简单:设置一个温度,炉子即可保持该温度。

固有的局限性:端部热损失

单区炉的主要权衡是温度沿长度的均匀性。由于热量从管子两端散失,那里的温度自然会低于中心。炉子越长,潜在的均匀区就越长,但两端的温差是不可避免的。

何时考虑多区炉

如果您的工艺需要一个非常长且精确的均匀热区,或者您需要在样品上创建特定的温度梯度,则需要多区炉。这些炉子使用多个独立控制的加热元件(例如三个区域)来补偿端部热损失或有意创建不同的温度曲线。

如何为您的工艺选择合适的炉子

您的决策应基于您的热处理任务的具体要求。

  • 如果您的主要关注点是 1400°C 以下的一般实验室工作: H14HT 在标准的、紧凑的外形尺寸中提供了必要的性能。
  • 如果您的主要关注点是在非常高的温度下合成材料: H18-40HT 为小规模工作提供了所需的高温能力。
  • 如果您的主要关注点是处理更大的部件或批量样品,需要更长的均匀区: 选择加长的 3H18-40HT 是正确的。
  • 如果您的主要关注点是创建特定的温度曲线或最大化长距离的均匀性: 单区型号不是合适的工具;您应该研究三区炉选项。

归根结底,将炉子的能力与您的特定工艺目标保持一致是取得成功和可重复结果的关键。

摘要表:

型号 最高温度 管尺寸 (直径 x 长度) 最适用于
H14HT 1400°C 2.5" x 12" 1400°C 以下的一般实验室工作、退火、合成
H18-40HT 1760°C 连续,最高 1800°C 2.5" x 12" 先进陶瓷、高温合金、特种材料的处理
3H18-40HT 1760°C 连续 2.5" 或 4" x 27" 处理更大的样品,更长的均匀热区

准备好使用定制炉解决方案增强您的热处理能力了吗? KINTEK 凭借卓越的研发和内部制造能力,为各种实验室提供先进的高温炉解决方案。我们的产品线,包括马弗炉、管式炉、旋转炉、真空与气氛炉以及 CVD/PECVD 系统,辅以我们强大的深度定制能力,能够精确满足独特的实验要求。立即联系我们,讨论我们如何优化您实验室的效率和成果!

图解指南

单区卧式管式炉的尺寸和温控能力如何?探索您实验室的关键规格 图解指南

相关产品

大家还在问

相关产品

带石英管或氧化铝管的 1700℃ 高温实验室管式炉

带石英管或氧化铝管的 1700℃ 高温实验室管式炉

KINTEK 带氧化铝管的管式炉:精确加热至 1700°C,用于材料合成、CVD 和烧结。结构紧凑、可定制、真空就绪。立即浏览!

带石英和氧化铝管的 1400℃ 高温实验室管式炉

带石英和氧化铝管的 1400℃ 高温实验室管式炉

KINTEK 带氧化铝管的管式炉:用于实验室的精密高温处理,最高温度可达 2000°C。是材料合成、CVD 和烧结的理想之选。可提供定制选项。

高压实验室真空管式炉 石英管式炉

高压实验室真空管式炉 石英管式炉

KINTEK 高压管式炉:精确加热至 1100°C,压力控制为 15Mpa。是烧结、晶体生长和实验室研究的理想之选。可提供定制解决方案。

实验室石英管炉 RTP 加热管炉

实验室石英管炉 RTP 加热管炉

KINTEK 的 RTP 快速加热管炉可提供精确的温度控制、高达 100°C/sec 的快速加热和多种气氛选择,适用于高级实验室应用。

带底部升降装置的实验室马弗炉窑炉

带底部升降装置的实验室马弗炉窑炉

KT-BL 底部升降炉可提高实验室效率:1600℃ 的精确控制、卓越的均匀性和更高的生产率,适用于材料科学和研发领域。

1400℃ 受控惰性氮气氛炉

1400℃ 受控惰性氮气氛炉

KT-14A 可控气氛炉,用于实验室和工业。最高温度 1400°C,真空密封,惰性气体控制。可提供定制解决方案。

1700℃ 实验室用高温马弗炉

1700℃ 实验室用高温马弗炉

KT-17M 马弗炉:高精度 1700°C 实验室炉,具有 PID 控制、节能和可定制的尺寸,适用于工业和研究应用。

用于实验室排胶和预烧结的高温马弗炉

用于实验室排胶和预烧结的高温马弗炉

用于陶瓷的 KT-MD 型排胶和预烧结炉 - 温度控制精确、设计节能、尺寸可定制。立即提高您的实验室效率!

实验室用 1800℃ 高温马弗炉炉

实验室用 1800℃ 高温马弗炉炉

KINTEK 马弗炉:用于实验室的 1800°C 精确加热。节能、可定制、带 PID 控制。是烧结、退火和研究的理想之选。

1700℃ 受控惰性氮气氛炉

1700℃ 受控惰性氮气氛炉

KT-17A 可控气氛炉:通过真空和气体控制实现 1700°C 精确加热。是烧结、研究和材料加工的理想之选。立即浏览!

用于实验室的 1400℃ 马弗炉窑炉

用于实验室的 1400℃ 马弗炉窑炉

KT-14M 马弗炉:采用碳化硅元件、PID 控制和节能设计,可精确加热至 1400°C。是实验室的理想之选。

带陶瓷纤维内衬的真空热处理炉

带陶瓷纤维内衬的真空热处理炉

KINTEK 带有陶瓷纤维内衬的真空炉可提供高达 1700°C 的精确高温加工,确保热量均匀分布和能源效率。是实验室和生产的理想之选。

2200 ℃ 钨真空热处理和烧结炉

2200 ℃ 钨真空热处理和烧结炉

用于高温材料加工的 2200°C 钨真空炉。精确的控制、卓越的真空度、可定制的解决方案。是研究和工业应用的理想之选。

实验室真空倾斜旋转管式炉 旋转管式炉

实验室真空倾斜旋转管式炉 旋转管式炉

KINTEK 实验室旋转炉:用于煅烧、干燥和烧结的精密加热装置。可定制的真空和可控气氛解决方案。立即提升研究水平!

立式实验室石英管炉 管式炉

立式实验室石英管炉 管式炉

精密 KINTEK 立式管式炉:1800℃ 加热,PID 控制,可为实验室定制。是 CVD、晶体生长和材料测试的理想之选。

钼真空热处理炉

钼真空热处理炉

用于 1400°C 精确热处理的高性能钼真空炉。是烧结、钎焊和晶体生长的理想选择。耐用、高效、可定制。

真空密封连续工作旋转管式炉 旋转管式炉

真空密封连续工作旋转管式炉 旋转管式炉

用于连续真空处理的精密旋转管式炉。是煅烧、烧结和热处理的理想选择。最高温度可达 1600℃。

可控惰性氮氢气氛炉

可控惰性氮氢气氛炉

了解 KINTEK 的氢气气氛炉,在受控环境中进行精确烧结和退火。温度高达 1600°C,具有安全功能,可定制。

分体式多加热区旋转管式炉 旋转管式炉

分体式多加热区旋转管式炉 旋转管式炉

用于高温材料加工的精密分体式多加热区旋转管式炉,具有可调节的倾斜度、360° 旋转和可定制的加热区。是实验室的理想之选。

倾斜旋转式等离子体增强化学沉积 PECVD 管式炉设备

倾斜旋转式等离子体增强化学沉积 PECVD 管式炉设备

用于精确薄膜沉积的先进 PECVD 管式炉。均匀加热、射频等离子源、可定制的气体控制。是半导体研究的理想之选。


留下您的留言