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了解立式真空炉如何通过创建低压真空和精确加热来实现镁的选择性汽化和杂质去除，从而提纯镁。
探索用于金属蒸馏的立式、卧式、多级和连续真空炉。高效实现高纯度金属提纯。
了解旋转窑炉如何为工业热处理应用实现连续加工、高产量和无与伦比的产品一致性。
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比较真空感应熔炼 (VIM) 和电弧熔炼 (AM) 炉在纯度、规模和材料兼容性方面的差异，以优化您的金属生产工艺。
了解真空炉如何防止污染，确保精确的温度控制，并提供无与伦比的工艺可重复性，从而获得卓越的热处理效果。
了解真空炉与传统炉之间的区别，包括气氛控制、表面完整性和工艺精度，以实现更优化的热处理。
探索旋转管倾斜炉的功能，如旋转、倾斜和气氛控制，以实现均匀加热和实验室中高效的材料处理。
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PECVD 的工作温度为 200-400°C，而 LPCVD 的工作温度为 425-900°C，这使得对敏感基板可以进行低温沉积并加快制造速度。
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探索如何在PECVD中平衡刻蚀、成核和沉积，从而实现从薄膜到纳米结构的材料形貌定制，以应用于先进领域。
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探索等离子体增强化学气相沉积（PECVD）薄膜如何在半导体中实现电气隔离、钝化和封装，确保器件性能和可靠性，同时实现低温处理。
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