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探索PECVD的低压、低温条件（50-400°C），以便在不损坏热敏基板的情况下沉积薄膜。
探索PECVD薄膜的质量：均匀的厚度、低温处理、可调节的光学/电学特性，以及为先进应用而带来的如氢含量高等权衡。
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