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探索CVD涂层如何改善支架和关节等医疗植入物的生物相容性、耐用性和功能性，以获得更好的患者预后。
探索PECVD在低温下沉积SiO₂、Si₃N₄和低k介电材料的关键作用，用于隔离、钝化和高性能芯片。
了解CVD中的等离子体增强如何实现低温薄膜沉积，这对于敏感的电子和光学设备至关重要。
了解温度、薄膜特性和成本等关键因素，以便在CVD和PECVD之间进行选择，从而在您的应用中实现最佳的薄膜沉积。
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了解 PECVD 系统的基板兼容性，包括最大 6 英寸的圆形晶圆和方形基板，适用于半导体、太阳能和光学应用。
探索PECVD 200-400°C的范围，用于在对热敏感的基板（如半导体和塑料）上沉积高质量的薄膜。
了解 PECVD 的低温等离子体工艺如何安全地涂覆塑料和聚合物，在确保有效薄膜沉积的同时防止材料受损。
了解PECVD的优势：低温工艺、高沉积速率和卓越的薄膜质量，适用于半导体和电子行业中的温度敏感基板。
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