知识 使用陶瓷附加材料矫正开放式近端接触的过程是怎样的?椅旁效率和精度
作者头像

技术团队 · Kintek Furnace

更新于 1 个月前

使用陶瓷附加材料矫正开放式近端接触的过程是怎样的?椅旁效率和精度

使用陶瓷附加材料矫正开放性近端接触是一种精确的椅旁程序,包括混合、应用、烧制和塑形陶瓷材料,以实现理想的接触,而无需实验室延迟。该过程允许牙医在一次预约中完成所有步骤,从而确保了效率和准确性。 气氛甑式炉 以获得最佳焙烧条件。

要点说明:

  1. 陶瓷添加剂材料的制备

    • 将陶瓷附加材料与液体混合,使其达到可加工的稠度。这一步骤对于确保材料的粘附性和准确成型至关重要。
    • 混合物应均匀一致,以避免最终修复体的不一致性。
  2. 应用于接触区

    • 将混合陶瓷材料小心地涂抹到开放的近端接触区。精确度是避免过度填充或填充不足的关键。
    • 牙医必须确保材料与现有的修复体完美融合,以达到自然的外观和功能。
  3. 烧制修复体

    • 将涂抹好的材料放入专门的炉子中烧制,如 气氛甑式炉 它提供可控的温度和气氛条件,以实现最佳的陶瓷粘合效果。
    • 烧制参数(时间、温度和气氛)必须根据特定的陶瓷材料进行调整,以防止出现裂缝或粘接不牢。
  4. 烧制后的塑形和轮廓处理

    • 烧制后,要对附加材料进行塑形和轮廓处理,使其与邻牙相匹配。这一步骤可确保正确的咬合和美观。
    • 可使用牙科车针或抛光工具进行微调,以获得光滑的表面。
  5. 矫正烧结(如需要)

    • 如果在已经结晶的修复体上使用陶瓷附加物,可能需要进行矫正烧结,以确保完全融合和强度。
    • 这一步骤是可选的,但为了长期的耐用性,建议采用这一步骤。
  6. 质量控制和最终检查

    • 对最终修复体的密合性、功能和美观性进行检查。使用牙线或衔接纸检查近端接触是否正确。
    • 任何细微的调整都会在椅旁进行,以确保患者的舒适度和满意度。

这一简化流程凸显了使用以下先进设备的重要性 气氛甑式炉 在牙科修复中获得可靠、优质的效果。

汇总表:

步骤 关键行动 所用设备
制备 混合陶瓷添加剂材料,使其均匀一致。 -
应用 将材料精确涂抹到接触区域。 -
烧制 在专用炉(如气氛甑式炉)中烧制。 气氛甑式炉
整形和轮廓塑造 为咬合和美观进行烧结后调整。 牙科车针、抛光工具
矫正烧结 增强耐用性的可选步骤。 气氛甑式炉
质量控制 验证牙线/关节纸的匹配性、功能和美观性。 -

利用精密陶瓷解决方案改进您的修复工作流程!
利用 KINTEK 先进的高温炉,包括 气氛甑式炉 牙科专业人员只需预约一次,即可获得无缝、耐用的陶瓷附加物。我们在研发和内部制造方面的专业知识可确保为您的独特临床需求量身定制解决方案。
今天就联系我们 了解我们的设备如何提升您的椅旁效率!

您可能正在寻找的产品:

用于实验室监控的高精度真空观察窗
用于关键应用的可靠真空馈入连接器
碳化硅加热元件经久耐用,性能始终如一
不锈钢真空阀确保系统完整性
用于金刚石沉积的先进 MPCVD 系统

相关产品

用于层压和加热的真空热压炉设备

用于层压和加热的真空热压炉设备

KINTEK 真空层压机:用于晶片、薄膜和 LCP 应用的精密粘合。最高温度 500°C,压力 20 吨,通过 CE 认证。可提供定制解决方案。

定制多功能 CVD 管式炉 化学气相沉积 CVD 设备机

定制多功能 CVD 管式炉 化学气相沉积 CVD 设备机

KINTEK 的 CVD 管式炉可提供高达 1600°C 的精确温度控制,是薄膜沉积的理想之选。可根据研究和工业需求进行定制。

电回转窑热解炉设备 小型回转窑煅烧炉

电回转窑热解炉设备 小型回转窑煅烧炉

KINTEK 电回转窑:1100℃ 精确煅烧、热解和干燥。环保、多区加热,可根据实验室和工业需求定制。

带高硼硅玻璃视镜的超高真空 CF 观察窗法兰

带高硼硅玻璃视镜的超高真空 CF 观察窗法兰

CF 超高真空观察窗法兰采用高硼硅玻璃,适用于精确的超高真空应用。耐用、清晰、可定制。

真空热压炉加热真空压力机

真空热压炉加热真空压力机

KINTEK 真空热压炉:精密加热和压制,可获得极佳的材料密度。可定制温度高达 2800°C,是金属、陶瓷和复合材料的理想之选。立即探索高级功能!

用于真空系统的 304 316 不锈钢高真空球截止阀

用于真空系统的 304 316 不锈钢高真空球截止阀

KINTEK 的 304/316 不锈钢真空球阀和截止阀可确保工业和科学应用中的高性能密封。探索耐用、耐腐蚀的解决方案。

用于高精度应用的超真空电极馈入连接器法兰电源线

用于高精度应用的超真空电极馈入连接器法兰电源线

超真空电极馈入件,用于可靠的 UHV 连接。高密封性、可定制的法兰选项,是半导体和太空应用的理想选择。

用于高真空系统的不锈钢 KF ISO 真空法兰盲板

用于高真空系统的不锈钢 KF ISO 真空法兰盲板

用于高真空系统的优质 KF/ISO 不锈钢真空盲板。耐用的 304/316 SS、氟橡胶/EPDM 密封件。KF 和 ISO 连接。立即获取专家建议!

电炉用二硅化钼 MoSi2 热加热元件

电炉用二硅化钼 MoSi2 热加热元件

用于实验室的高性能 MoSi2 加热元件,温度可达 1800°C,具有出色的抗氧化性。可定制、耐用、可靠,适合高温应用。

高性能真空波纹管,实现系统的高效连接和稳定真空

高性能真空波纹管,实现系统的高效连接和稳定真空

KF 超高真空观察窗采用高硼硅玻璃,可在要求苛刻的 10^-9 托环境中清晰观察。耐用的 304 不锈钢法兰。

用于拉丝模纳米金刚石涂层的 HFCVD 机器系统设备

用于拉丝模纳米金刚石涂层的 HFCVD 机器系统设备

KINTEK 的 HFCVD 系统可为拉丝模具提供高质量的纳米金刚石涂层,以卓越的硬度和耐磨性提高耐用性。立即探索精密解决方案!

用于实验室金刚石生长的圆柱形谐振器 MPCVD 设备系统

用于实验室金刚石生长的圆柱形谐振器 MPCVD 设备系统

KINTEK MPCVD 系统:精确生长高质量金刚石薄膜。可靠、节能、适合初学者。提供专家支持。

2200 ℃ 石墨真空热处理炉

2200 ℃ 石墨真空热处理炉

2200℃ 高温烧结石墨真空炉。精确的 PID 控制,6*10³Pa 真空,耐用的石墨加热装置。是研究和生产的理想之选。

倾斜旋转式等离子体增强化学沉积 PECVD 管式炉设备

倾斜旋转式等离子体增强化学沉积 PECVD 管式炉设备

用于精确薄膜沉积的先进 PECVD 管式炉。均匀加热、射频等离子源、可定制的气体控制。是半导体研究的理想之选。

倾斜旋转式等离子体增强化学沉积 PECVD 管式炉设备

倾斜旋转式等离子体增强化学沉积 PECVD 管式炉设备

KINTEK 的 PECVD 涂层设备可在低温下为 LED、太阳能电池和 MEMS 提供精密薄膜。可定制的高性能解决方案。

实验室用 1800℃ 高温马弗炉炉

实验室用 1800℃ 高温马弗炉炉

KINTEK 马弗炉:用于实验室的 1800°C 精确加热。节能、可定制、带 PID 控制。是烧结、退火和研究的理想之选。

1700℃ 实验室用高温马弗炉

1700℃ 实验室用高温马弗炉

KT-17M 马弗炉:高精度 1700°C 实验室炉,具有 PID 控制、节能和可定制的尺寸,适用于工业和研究应用。

带陶瓷纤维内衬的真空热处理炉

带陶瓷纤维内衬的真空热处理炉

KINTEK 带有陶瓷纤维内衬的真空炉可提供高达 1700°C 的精确高温加工,确保热量均匀分布和能源效率。是实验室和生产的理想之选。

超高真空 CF 法兰 不锈钢蓝宝石玻璃观察视窗

超高真空 CF 法兰 不锈钢蓝宝石玻璃观察视窗

用于超高真空系统的 CF 蓝宝石观察窗。耐用、清晰、精确,适用于半导体和航空航天应用。立即查看规格!

600T 真空感应热压机真空热处理和烧结炉

600T 真空感应热压机真空热处理和烧结炉

用于精确烧结的 600T 真空感应热压炉。先进的 600T 压力、2200°C 加热、真空/气氛控制。是研究和生产的理想选择。


留下您的留言