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探索马弗炉中的PID温度控制、惰性气氛和快速加热/冷却技术,以实现半导体制造中有效的硅退火。
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探讨马弗炉和干燥箱在保温方面的差异,重点关注温度范围、热量控制和实验室应用适用性。
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